PUE-3000型紅外線分析儀連續(xù)檢測流程氣樣中待測組份一氧化碳
PUE-3000 面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
杭州奧科環(huán)境試驗設(shè)備有限公司
參 考 價 | 面議 |
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更新時間:2021-12-03 08:46:47瀏覽次數(shù):152次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線描述:低濃度顆粒物恒溫恒濕稱重系統(tǒng) AOC品牌產(chǎn)品適用于考察樣品放在稱重系統(tǒng)試驗箱內(nèi),平衡一定時間后,進行手動稱重。稱重系統(tǒng)試驗箱克服了實驗室環(huán)境溫濕度變化對稱量結(jié)果造成影響,提高了稱量的準確性。
一、產(chǎn)品用途
低濃度顆粒物恒溫恒濕稱重系統(tǒng) AOC品牌產(chǎn)品適用于考察樣品放在稱重系統(tǒng)試驗箱內(nèi),平衡一定時間后,進行手動稱重。稱重系統(tǒng)試驗箱克服了實驗室環(huán)境溫濕度變化對稱量結(jié)果造成影響,提高了稱量的準確性。
二、產(chǎn)品規(guī)格
型號: GDJ-150 工作室尺寸D×W×H: 500×500×600 (mm)
外形 尺寸D×W×H: 1080×1050×1570(mm)
三、技術(shù)參數(shù)
1. 溫度范圍:15℃~40℃
2. 濕度范圍:30%~70%R.H(相對濕度50±5%R.H范圍內(nèi))
3. 溫度均勻度:≤±2℃ (空載時)
4. 濕度均勻度:≤±3%R.H
5. 溫度波動度:≤±0.5℃ (空載時)
6. 濕度波動度:±2%
7. 溫度偏差:≤±2℃
8. 濕度偏差:≤±2%
9. 降溫速率:≥1.0℃/min
10. 升溫速率:≥2.5℃/min
11. 電源電壓:380V±10%/60HZ(三相四線+接地線)
12. 空氣調(diào)節(jié):軸流風機一套。加熱器、冷凝器、加濕器。
四、箱體結(jié)構(gòu)
1. 整個箱體采用整體結(jié)構(gòu)。
2. 箱體內(nèi)側(cè)采用1.0mm進口SUS304B不銹鋼板,外側(cè)采用1.0mm冷軋鋼板噴塑,保溫材料采用超細玻璃保溫棉。
3. 大門密封采用雙層硅橡膠密封材料。
4. 觀察窗口設(shè)有兩個操作入口,采用乳膠長手套進行隔離,避免人工操作過程中對恒溫恒濕條件的影響。
5. 在箱體側(cè)面設(shè)有帶塞子的φ50mm測試孔,塞子材料為硅橡膠低發(fā)泡,能耐高低溫,兼具保溫效能。
6. 制冷機組(外置),與主機共處一室,不影響主機工作
7. 溫度傳感器置于出風口。
8. 試驗箱內(nèi)的送風方式為上送風下回風方式。
五、制冷系統(tǒng)
1. 低溫制冷采用法國“泰康”全封閉式壓縮機機組。其它制冷部件如美國RANCO、SPORLAN、瑞士“ALFALAVAL”、丹麥DANFOSS、意大利CASTEL、日本鷺宮等*產(chǎn)品。使用R404A環(huán)保型制冷劑。蒸發(fā)冷凝器既作為高溫級的蒸發(fā)器,又作為低溫級的冷凝器。
2. 為確保系統(tǒng)安全運行,在系統(tǒng)中需設(shè)置高低壓控制、超壓、過載等保護系統(tǒng)。同時為了監(jiān)測系統(tǒng)運行情況,在高低壓端均需設(shè)有高低壓表監(jiān)測系統(tǒng)運行情況。
3. 制冷量調(diào)節(jié)采用分流法。
4. 其它制冷部件均采用美國RANCO、SPORLAN、瑞士“ALFALAVAL”、丹麥DANFOSS、意大利CASTEL、日本鷺宮等*產(chǎn)品。
六、加熱、加濕系統(tǒng)
1. 加熱系統(tǒng)采用熱風循環(huán)加熱方式,溫度分布均勻*獨立系統(tǒng).
2. 溫度控制輸出功率均由微電腦演算,根據(jù)內(nèi)負荷大小自動控制加熱功
率,以達高精度與高效率的用電效益,更加環(huán)保節(jié)能
3. 系統(tǒng)主要組成部分:加熱管、固態(tài)繼電器等
八、執(zhí)行標準
1. GB18325.3-2005;
2. GB18352.5-2013;
3. GB18352.6-2016;
4. GB17691-2005;
九、設(shè)備使用環(huán)境
1. 環(huán)境溫度:5℃~+28℃(24小時內(nèi)平均溫度≤28℃);
2. 環(huán)境濕度:≤85%;
3. 電源要求:AC380( ±10%)V/50HZ 三相四線制;
4. 水源要求:去離子水或純凈水;
5. 操作環(huán)境需要在室溫28度以下而且通風良好;
6. 機器放置前后左右各80公分不可放置東西;
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