儀器簡介：

  為了滿足在同一臺儀器上進行綜合分析(需要大探針電流)和超高分辨率觀察的需求，日立開發(fā)了SU-70。它采用成熟的超高分辨率半內(nèi)透鏡技術(shù)和熱場發(fā)射電子槍，為探索納米世界打開了一扇新的大門。

主要特點：

  日立SU 70型熱場發(fā)射電鏡的物鏡設(shè)計與以往有很大不同，它集成了*的S-4800的半內(nèi)透鏡和ExB技術(shù)，可完成樣品微觀結(jié)構(gòu)的高分辨觀測；同時新設(shè)計的無外泄磁場觀測模式能提供強大的探針電流，可以適應(yīng)各種擴展分析的需求，是款集高分辨和高分析能力于一身的新型熱場發(fā)射掃描電鏡。

技術(shù)參數(shù)：

二次電子圖象分辨率:
1.0nm(15KV.WD=4.0mm)
1.6nm(1KV.WD=1.5mm,減速模式)
2.5nm(1KV.WD=1.5mm)

放大倍數(shù):
低放大倍數(shù)模式 20-2,000x
高放大倍數(shù)模式 100-800,000x

電子光學(xué):
電子槍 ZrO/W 肖特基電子槍
電流 1pA-100nA
加速電壓 0.5-30KV(標(biāo)準(zhǔn)模式)
著陸電壓 0.1-2.0KV(減速模式)
透鏡系統(tǒng) 3級電磁線圈系統(tǒng)
物鏡光闌 4孔光闌,真空外選擇和細調(diào)

樣品臺:
樣品臺控制 5軸馬達控制
移動范圍
X 0-110mm
Y 0-110mm
z 1.5-40mm
T -0.5O-+700
R 360O
樣品尺寸 直徑150mm(標(biāo)準(zhǔn))
() 直徑200mm(可選)

探測器:
二次電子探測器
背散射電子探測器(可選)
STEM探測器(可選)
法拉第杯(可選)
X射線能譜儀(可選)
X射線波譜儀(可選)
EBSP探測器(可選)
陰極熒光探測器(可選)