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行業(yè)產(chǎn)品
南北儀器有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)ES01
品 牌
廠商性質(zhì)其他
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更新時(shí)間:2023-03-09 17:34:07瀏覽次數(shù):237次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線ES01系列光譜橢偏儀用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k),也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k
ES01系列光譜橢偏儀用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)(如,厚度)和物理參數(shù)(如,折射率n、消光系數(shù)k),也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
ES01系列光譜橢偏儀適合于對(duì)樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測(cè)。
采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量原子層量的納米薄膜,膜厚精度達(dá)到0.05nm。
快速橢偏采樣方法、高信噪比的信號(hào)探測(cè)、自動(dòng)化的測(cè)量軟件,在保證高精度和準(zhǔn)確度的同時(shí),10秒內(nèi)快速完成一次全光譜橢偏測(cè)量。
對(duì)于常規(guī)操作,只需鼠標(biāo)點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的測(cè)量、建模、擬合和分析過程,豐富的模型庫(kù)和材料庫(kù)也同時(shí)方便了用戶的高操作需求。
ES01系列尤其適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)。
ES01系列多種光譜范圍可滿足不同應(yīng)用場(chǎng)合。比如:
ES01系列可用于測(cè)量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。典型應(yīng)用如:
ES01系列也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。典型應(yīng)用包括:
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
光譜范圍 | ES01V:370-1000nm ES01U:245-1000nm |
光譜分辨率 | 1.5nm |
單次測(cè)量時(shí)間 | 典型10s,取決于測(cè)量模式 |
準(zhǔn)確度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° (透射模式測(cè)空氣時(shí)) |
膜厚測(cè)量重復(fù)性(1) | 0.05nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率精度(1) | 1x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
入射角度 | 40°-90°自動(dòng)調(diào)節(jié),重復(fù)性0.02° |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA(Δ在0°或180°附近時(shí)也具有的準(zhǔn)確度) |
樣品臺(tái)尺寸 | 可放置樣品尺寸:直徑170 mm |
樣品方位調(diào)整 | 高度調(diào)節(jié)范圍:0-10mm |
二維俯仰調(diào)節(jié):±4° | |
樣品對(duì)準(zhǔn) | 光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) |
軟件 | •多語(yǔ)言界面切換 |
•預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 | |
•安全的權(quán)限管理模式(管理員、操作員) | |
•方便的材料數(shù)據(jù)庫(kù)以及多種色散模型庫(kù) | |
•豐富的模型數(shù)據(jù)庫(kù) | |
選配件 | 自動(dòng)掃描樣品臺(tái) 聚焦透鏡 |
注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標(biāo)片
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