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伯東企業(yè)(上海)有限公司
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更新時間:2022-10-30 14:23:11瀏覽次數(shù):169次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線殘余氣體分析儀應(yīng)用于分子束外延 MBE
上海伯東 Pfeiffer 殘余氣體分析質(zhì)譜儀 QMG 應(yīng)用于分子束外延(MBE)系統(tǒng)
分子束外延(MBE)是一種晶體生長技術(shù),將半導體襯底放置在超高真空腔體中,和將需要生長的單晶物質(zhì)按元素的不同分別放在噴射爐中,由分別加熱到相應(yīng)溫度的各元素噴射出的分子流能在襯底上生長出極薄的,可薄至單原子層水平,單晶體和幾種物質(zhì)交替的超晶格結(jié)構(gòu)。
分子束外延主要研究的是不同結(jié)構(gòu)或不同材料的晶體和超晶格的生長。該方法生長溫度低,能嚴格控制外延層的層厚組分和摻雜濃度。
分子束外延系統(tǒng)對真空度要求及其高,對真空腔體的密封性、材料放氣率、微量雜質(zhì)氣體和水蒸氣比較敏感,本系統(tǒng)采用上海伯東德國 Pfeiffer 殘氣質(zhì)譜儀 QMG 對超高真空腔體進行檢漏,及材料放氣組分及水汽進行分析,確保超高真空及真空的穩(wěn)定性,對晶格的生長起到很好的作用。
客戶案例:上海某研究所 MBE 超高真空系統(tǒng)
系統(tǒng)運行條件:
1. 主要針對 ZnO 等金屬氧化物外延生長
2. 超高真空生長室,配有上海伯東德國 Pfeiffer殘余氣體分析質(zhì)譜儀 QMG+液氮冷屏;
3. 配有12個加熱泄流源.
4. 襯底加熱器加熱溫度1200℃
5. SiC 襯底加熱器可以在氧氣環(huán)境下工作;
6. 線型進樣室實現(xiàn)全自動送片
配套 Pfeiffer QMG 殘余氣體分析質(zhì)譜儀配置:
1.測量范圍:1-100amu
2.檢測器:Faraday/C-SEM
3.烘烤溫度:200℃
4.離子源:Grid ion source
5.燈絲:Yttriated iridium
6.配有軟件及I/O模塊
Pfeiffer 殘余氣體質(zhì)譜分析儀與友廠同級別質(zhì)譜分析儀相比,更適用于移動應(yīng)用,并且提供高解析度和靈敏度,可對氣體進行定性和定量分析,應(yīng)用范圍廣泛,從大氣壓力到高真空均可使用。
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