JULABO優(yōu)萊博 精密實(shí)驗(yàn)室溫度計(jì)-內(nèi)標(biāo)示1042343S
面議污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
長(zhǎng)沙艾克賽普儀器設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2022-12-14 15:19:58瀏覽次數(shù)：114次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡配備場(chǎng)發(fā)射電子槍和型內(nèi)置式能量過(guò)濾器(Omega過(guò)濾器)。 利用過(guò)濾器的功能，不僅可以進(jìn)行樣品中的元素分析，還能分析化學(xué)結(jié)合狀態(tài)，從零損失像和能量過(guò)濾像中獲得感興趣的有用信息。捷歐路JEOL JEM-2200FS 場(chǎng)發(fā)射透射電子...
| 物鏡種類*1 | 分辨率 （UHR）型 | 高分辨率 （HR）型 | 樣品高傾斜 （HT）型 | 樣品冷卻 （CR）型 | 高襯度 （HC）型 |
| 分辨率 | |||||
| 點(diǎn)分辨率 晶格分辨率 | 0.19 nm 0.1 nm | 0.23 nm 0.1 nm | 0.25 nm 0.1 nm | 0.27 nm 0.14 nm | 0.31 nm 0.14 nm |
| 能量分辨率 | 0.8 eV（零損失 FWHM） | ||||
| 加速電壓 | 160 kV，200 kV*2 | ||||
| 電子槍 | |||||
| 發(fā)射體 | ZrO/W(100) 肖特基式 | ||||
| 亮度 | ≧4×108 A／cm2 ・ sr | ||||
| 真空度 | ×10-8 Pa 級(jí) | ||||
| 探針電流 | 探針直徑為１ nm ，在0.5 nA以上 | ||||
| 穩(wěn)定度 | |||||
| 加速電壓 | ≦1×10-6／min | ||||
| 物鏡電流 | ≦1×10-6／min | ||||
| 過(guò)濾器電流 | ≦1×10-6／min | ||||
| 物鏡 | |||||
| 焦距 | 1.9 mm | 2.3 mm | 2.7 mm | 2.8 mm | 3.9 mm |
| 球差系數(shù) | 0.5 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | 2.0 mm | 3.3 mm |
| 色差系數(shù) | 1.1 mm | 1.4 mm | 1.8 mm | 2.1 mm | 3.0 mm |
| 最小焦距步長(zhǎng) | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.8 nm | 2.0 nm | 5.2 nm |
| 束斑尺寸 | |||||
| TEM 模式 | 2 ～ 5 nm | ７ ～30 nm | |||
| EDS 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | 4 ～20 nm | |
| NBD 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | - | |
| CBD 模式 | 0.5 ～ 2.4 nm | 1.0 ～2.4 nm | - | ||
| 電子束衍射 | |||||
| 衍射角(2α) | 1.5 to 20 mrad 以上 | - | |||
| 取出角 | ±10 ° | - | |||
| 倍率 | |||||
| MAG 模式 | ×2,000 ～ 1,500,000 | ×2,000 ～ 1,200,000 | ×1,500 ～ 1,000,000 | ×1,200 ～ 600,000 | |
| LOW MAG 模式 | ×50 to1,500 | ||||
| SA MAG 模式 | ×10,000 ～ 800,000 | ×8,000 ～ 600,000 | ×8,000 ～500,000 | ×5,000 to 400,000 | |
| 能量過(guò)濾像 有效視場(chǎng)大小 | 選擇10eV時(shí)，最終像平面（底片)上直徑為80mm 選擇2eV時(shí)，最終像平面(底片)上直徑為25mm | ||||
| 相機(jī)長(zhǎng)度 | |||||
| 選區(qū)電子衍射 | 150 ～ 1,500mm | 200 ～ 2,000 mm | 250 ～ 2,500 mm | 300 ～ 3,000 mm | |
| EELS 散射 | |||||
| 狹縫上 | 1.2 μm／eV, 200 kV | ||||
| 最終像平面 | 50 ～ 300 μm／eV, 200 kV | ||||
| 樣品室 | |||||
| 移動(dòng)量(XY / Z) | 2mm／0.2mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm | 2mm／0.4mm |
| 傾斜角(X / Y)*3 | ±25°／±25° | ±35°／±30° | ±42°／±30° | ±15°／±10° | ±38°／±30° |
| 傾斜角(X)*4 | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
| EDS*5 | |||||
| 固體角*6 | 0.13 sr | - | 0.09 sr | ||
| 取出角 | 25° | - | 20° | ||
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