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廣州凱縱檢測技術有限公司
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更新時間:2022-08-25 10:51:26瀏覽次數(shù):221次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線氧氮氫分析儀ONH-p
ONH-p采用惰性氣體融合技術,將樣品在脈沖爐中加熱超過3000℃。
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀用于測定無機樣品中的氧、氮和氫元素含量。樣品被置于電極脈沖爐中,產生可達3000℃的溫度,在惰性氣體下熔融。
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀可以確保快速、精確的測定樣品,適用范圍非常廣泛,如金屬、陶瓷和其他各種無材料。
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀最多可配備兩個不同長度的紅外檢測池,依據(jù)樣品中氧含量的不同,自動選擇高或低含量的檢測池測量;氮和氫元素含量的測定,由兩個更高靈敏度的熱導檢測池測定。
應用實例
合金, 鋼鐵, 銅, 鑄鐵, 陶瓷, 難熔金屬...
優(yōu)點
• 采用惰氣熔融技術,同時測定氧、氮和氫元素含量
• 新:新設計封閉氣路系統(tǒng),優(yōu)化氣路循環(huán),使氧氮氫測量更精確
• 新:可采用更廉價的氬氣作為載氣
• 新:催化爐溫度可調,使氧的測量更加精確
• 新:氣路系統(tǒng)都采用電磁閥控制,新增分段式漏氣檢測
• 新:水冷樣品加樣端口,有效隔絕雜質氣體侵入
• 儀器配置和氧、氮、氫測量范圍可靈活選擇
• 新設計的高靈敏度紅外檢測池和熱導池,有極低的檢出限
• 分析時間短
• 脈沖爐功率高達8.5 kw,溫度3000℃
• 顆粒狀樣品無需膠囊包裹,使用經濟實惠
• 新:化學試劑及管路隱藏在門后(可移除)
• 新:強大的分析軟件(支持數(shù)據(jù)和應用報告導出、增加評論區(qū)及其他更多功能)
• 單點和多點校正(線性回歸)
• 新:可采用自來水、冷卻循環(huán)水機或交換機冷卻
• 新設計的產品可用于各類生產控制和實驗室
性能指標
分析元素 | 氫, 氧, 氮 |
樣品 | 無機 |
爐子校準 | 垂直的 |
載樣 | 石墨坩堝 |
應用領域 | 鋼鐵、冶金、陶瓷、金屬、工程、電子 |
爐子 | 脈沖爐功率高達8.5 kw,溫度3000℃ |
檢測方式 | 氧:紅外吸收法測定; 氮和氫:熱導法測定 |
典型分析時間 | 120 - 180 s |
化學品 | 高氯酸鎂、氫氧化鈉、 氧化銅、 舒茨試劑 |
載氣 | 壓縮空氣或氮氣作為動力氣;載氣氦氣:99.995%純度;載氣氮氣:99.995%純度;載氣氬氣:99.995%純度,所有氣體壓力(2 - 4bar/ 30 - 60 psi) |
所需功率 | 3~ 400 V, 50/60 Hz, max. 8,500 W |
尺寸 (寬 x 高 x 縱深) | 57 x 77 x 63 cm |
重量 | ~ 161 kg |
所需設備 | 電腦,顯示器,天平(精度0.0001克) |
選配件 | 冷卻循環(huán)器、氣標單元、載氣凈化爐 |
- | 脈沖爐功率高達8.5 kw |
作用原理
ONH-p操作
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀的操作簡單安全。使用天平對樣品進行秤重后,樣品重量可直接傳輸?shù)诫娔X上,同樣也可以手動輸入樣品重量。
依據(jù)樣品類型不同,有些樣品需要放入鎳籃或鎳膠囊中,而顆粒狀或針狀的鋼樣品可直接放到樣品端口中。某些樣品的處理需要添加助熔劑,如錫或鎳,而助熔劑要放在空坩堝中,石墨坩堝置于下電極上,然后開始分析,分析時間通常為2.5分鐘。
所有的紅外池輸出信號和儀器參數(shù)都是實時顯示,并同測量結果一起保存在數(shù)據(jù)庫中,并且檢測結果和設置參數(shù)都可以導出。ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀只需很少的維護,例如隱藏在門后的粉塵過濾器和試劑管,清洗和更換都非常方便。試劑管和過濾器都隱藏在門后,在分析過程中可將門打開或移除,可直接觀察到試劑和過濾器的情況。
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀測量原理
ELEMENTRAC ONH-p氧氮氫分析儀的測量范圍非常廣泛。分析樣品時,樣品被稱重后放到樣品端口中,然后用載氣進行沖洗,防止大氣(含氧氣和氮氣)進入到爐子系統(tǒng)中。
石墨坩堝在脈沖爐中脫氣,以盡量減少自帶的污染(例如殘余氫)。經過穩(wěn)定階段后樣品落入坩堝中并熔融。樣品中的氧與石墨坩堝中的碳反應生成一氧化碳。氮和氫以單質的形式釋放。載氣(如氦氣)和樣品氣體通過粉塵過濾網(wǎng)后再進入到氧化銅催化爐中,將一氧化碳氧化成二氧化碳。
二氧化碳進入到紅外池中用于測定氧含量,被測后的氣體導入化學試劑管,這時二氧化碳和水被化學試劑除去,氮元素通過熱導檢測池含量被測定。測量氫時,載氣換為氮氣,樣品氣體通過舒茨試劑而不是氧化銅催化劑。測氧和氮時也可采用更廉價的氬氣作為載氣。
根據(jù)技術改造和誤差調整。
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