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更新時(shí)間：2022-10-22 15:39:07瀏覽次數(shù)：185次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H
一、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H概述
電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的產(chǎn)水量是每小時(shí)50噸，出水水質(zhì)滿足工業(yè)清洗行業(yè)用水要求。電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。
二、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的優(yōu)勢(shì)分析
1、工藝的設(shè)計(jì)細(xì)微周到，元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計(jì)的流量、流速、壓力等均符合國(guó)家的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范及國(guó)外材料商的規(guī)定要求。
2、制水過程高度自動(dòng)化，自動(dòng)進(jìn)水，自動(dòng)制水，純水箱滿水自動(dòng)停機(jī)，用水后自動(dòng)恢復(fù)，可*實(shí)現(xiàn)無人值守的運(yùn)行。
3、可選用可編程控制(PLC)，計(jì)算機(jī)觸摸屏控制，遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等*技術(shù)，使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。
三、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的工藝流程
1、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)。
2、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)。
3、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)。
四、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的技術(shù)指標(biāo)
(1) 脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級(jí)反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹脂95%以上。
(3) 離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
(4) 清潔生產(chǎn)，無廢水處理問題，利于環(huán)保。
(5) 自動(dòng)化程度高，易維護(hù)，可設(shè)計(jì)成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線。
(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，*無菌。
(7) 占地面積小，單一系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)，不需建設(shè)備用系統(tǒng)。
五、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的水質(zhì)指標(biāo)
| 型號(hào) | 電阻率 | 氧化矽 | 重金屬 | KMnO4 | 鈉 | 氨 | 微生物 | PH值 |
| CAP-Ⅰ | ≥10 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅱ | 0.5 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.01 | 0.01 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅲ | 0.2 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| NCCLS | ≥10 | 0.05 | —— | —— | —— | —— | 10 | —— |
電子芯片清洗用超純水設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，耗能低，產(chǎn)水水質(zhì)符合國(guó)家相關(guān)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。萊特萊德作為專業(yè)的水處理設(shè)備生產(chǎn)廠家，我們生產(chǎn)的超純水設(shè)備具有專業(yè)的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和可靠性。萊特萊德是集設(shè)計(jì)、制造、銷售于一體的大型水處理生產(chǎn)廠家，我們售后服務(wù)好，品質(zhì)有保證，歡迎廣大用戶光臨選購。
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