產(chǎn)品簡介：微型PECVD系統(tǒng)采用Ø3" × 16" 的石英腔體，內(nèi)部設(shè)有加熱圈對樣品進行加熱，溫度可以達到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機械泵，整套系統(tǒng)安放于移動架上，便于實驗操作。本系統(tǒng)系對于薄膜生長和納米線的制作是的選擇。

產(chǎn)品型號	微型PECVD系統(tǒng)
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氣體，需自備氣瓶氣源 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：需要
主要特點	1、加熱圈套有石英罩，以減小熱量損失。 2、樣品可置于加熱線圈內(nèi)，以達到更好的加熱效率和溫度均勻性。 3、采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，可設(shè)置30段升降溫程序。 4、設(shè)有一滑動法蘭安裝于移動加上，以便于樣品的放入和取出。 5、已通過CE認證。
技術(shù)參數(shù)	等離子源 1、等離子體射頻電源：110V/220V 50Hz/60Hz <100W 2、輸出頻率：13.56MHz 3、射頻功率：7.2W、10.5W、18W三檔，可調(diào)節(jié) 4、腔體尺寸：外徑Ø76.2mm×內(nèi)徑Ø68.58mm×長406.4mm 5、加熱圈：電源220V，功率500W，外徑Ø50mm×內(nèi)徑Ø40mm×70mm，并套有內(nèi)徑Ø50.8mm×Ø75mm的石英罩 6、法蘭：Ø3″不銹鋼法蘭，設(shè)有KF-25真空泵接口、1/4″卡套接頭、不銹鋼針閥 7、通入氣體：可通入多種惰性氣體，如N₂、Ar，不可通入易燃易爆性氣體 8、真空度：10^-2torr（機械泵）
	兩通道混氣系統(tǒng) 1、浮子流量計：10ml/min-100ml/min，2個 2、針閥：304不銹鋼針閥，3個 3、壓力表：-0.1MPa-1.0MPa（0.01MPa/grid），3個
	真空泵 1、抽氣速率：120L/min 2、接口：KF-25
產(chǎn)品規(guī)格	1、尺寸：等離子源216mm×254mm×203mm，控制盒102mm×254mm×203mm，　　　　兩通道混氣系統(tǒng)340mm×300mm×180mm，移動架600mm×600mm×1250mm 2、重量：32kg