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低溫冷卻液循環(huán)泵（機(jī)）

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更新時(shí)間：2022-09-08 15:28:34瀏覽次數(shù)：373次

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粉碎設(shè)備

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低溫設(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

可*按照用戶的要求設(shè)計(jì)生產(chǎn)非標(biāo)

詳細(xì)介紹

低溫冷卻液循環(huán)泵（機(jī)）


★可*按照用戶的要求設(shè)計(jì)生產(chǎn)非標(biāo)

應(yīng)用領(lǐng)域：
◆生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器等
◆醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場(chǎng)核磁共振、X光機(jī)、機(jī)、科研冷帽、降溫毯等
◆物化領(lǐng)域：激光器、磁場(chǎng)、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備
◆材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等

用途范圍：
本系列產(chǎn)品是采取機(jī)械形式制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備，具有提供低溫液體、低溫水浴的作用?？晒┬D(zhuǎn)蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式真空泵、紫外分光光度計(jì)、磁力攪拌器等儀器的循環(huán)制冷，進(jìn)行多功能低溫下的化學(xué)反應(yīng)、生物反應(yīng)、藥物反應(yīng)等

主要特點(diǎn)：
◎全封閉無(wú)氟環(huán)保壓縮機(jī)制冷系統(tǒng)，具有過(guò)熱、過(guò)流等多重保護(hù)
◎進(jìn)口微機(jī)智能控制，大屏幕高亮液晶屏，中英文對(duì)照顯示，可設(shè)置0~100小時(shí)定時(shí)關(guān)機(jī)
◎具有微機(jī)軟件鎖功能；所有操作在微機(jī)觸摸軟鍵上進(jìn)行
◎內(nèi)膽和臺(tái)面采用優(yōu)質(zhì)S304拉絲面板不銹鋼
◎溫度范圍：可選-50～室溫（介質(zhì)根據(jù)溫度范圍選純水、乙二醇、酒精）
◎前面板和臺(tái)面人性化R圓角設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，避免劃傷
◎外循環(huán)功能：離心噴流循環(huán)泵可以把槽內(nèi)被恒溫液體外引，建立第二恒溫場(chǎng)，控制機(jī)外部實(shí)驗(yàn)容器
◎內(nèi)循環(huán)功能：采用無(wú)熱量離心循環(huán)泵，避免傳統(tǒng)水泵因自身產(chǎn)熱而影響槽體溫場(chǎng)。內(nèi)循環(huán)系統(tǒng)為多孔U型回流循環(huán)原理設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了槽體內(nèi)流場(chǎng)和溫度場(chǎng)的紊流和高度均勻
◎槽內(nèi)冷液可外引冷卻機(jī)外實(shí)驗(yàn)容器，也可在槽內(nèi)直接進(jìn)行低溫、恒溫實(shí)驗(yàn)
◎放水系統(tǒng)可滿足各類實(shí)驗(yàn)室及企業(yè)生產(chǎn)換液
◎立式標(biāo)配有萬(wàn)向輪底腳
◎安全保護(hù)裝置：1.具有斷電保護(hù)功能
            2.具有上下限溫度報(bào)警設(shè)定功能
            3.低水位保護(hù)和報(bào)警功能
            4.溫度失控保護(hù)和報(bào)警功能
            5.加熱管具有低水位防干燒、防爆功能
◎數(shù)顯分辨率：0.01℃
◎溫度波動(dòng)值：±0.05℃
◎溫度范圍可選擇擴(kuò)展到：-120~室溫

技術(shù)參數(shù):

型號(hào)	工作溫度(℃)	冷槽容積(L)	制冷量（W） 20℃時(shí)純水	恒溫精度(℃)	泵流量(L/min)	排水
VKDL-1005	-10	5	900	±0.5	15	有
VKDL-1505	-15	5	1200	±0.5	15	有
VKDL-2005	-20	5	1400	±0.5	15	有
VKDL-3005	-30	5	1900	±0.5	15	有
VKDL-4005	-40	5	1200	±0.5	15	有
VKDL-1510	-15	10	1400	±0.5	15	有
VKDL-2010	-20	10	1800	±0.5	15	有
VKDL-3010	-30	10	2300	±0.5	15	有
VKDL-4010	-40	10	3200	±0.5	15	有
VKDL-1015	-10	15	2200	±0.5	15	有
VKDL-2015	-20	15	2500	±0.5	15	有
VKDL-3015	-30	15	3000	±0.5	15	有
VKDL-1020	-10	20	2700	±0.5	15	有
VKDL-2020	-20	20	3000	±0.5	15	有
VKDL-3020	-30	20	3500	±0.5	15	有
VKDL-4020	-40	20	4200	±0.5	15	有
VKDL-1030	-10	30	3200	±0.5	15	有
VKDL-2030	-20	30	3600	±0.5	15	有
VKDL-3030	-30	30	4300	±0.5	15	有
VKDL-4030	-40	30	5600	±0.5	15	有
VKDL-1050	-10	50	4700	±0.5	15	有
VKDL-2050	-20	50	5000	±0.5	15	有
VKDL-3050	-30	50	5800	±0.5	15	有
VKDL-4050	-40	50	6300	±0.5	15	有
VKDL-10100	-10	100	4500	±0.5	15	有
VKDL-20100	-20	100	9500	±0.5	15	有
VKDL-30100	-30	100	11000	±0.5	15	有
VKDL-40100	-40	100	13000	±0.5	15	有

可選配功能指南:
1.可選配加長(zhǎng)外接式PT100溫度傳感器，可實(shí)時(shí)檢測(cè)和控制外循環(huán)時(shí)外部體系的溫度
2.可選配內(nèi)置1~30段溫度控制程序，可進(jìn)行自動(dòng)程序控溫，實(shí)時(shí)顯示設(shè)定溫度-時(shí)間程序運(yùn)行狀態(tài)
3.可選配RS232或RS485通訊接口，輕松連接上位機(jī)，帶有ModbusRTU通訊協(xié)議
4.可選配設(shè)計(jì)、安裝磁力攪拌系統(tǒng)，可把放入恒溫槽工作室內(nèi)燒杯中的液態(tài)樣品直接進(jìn)行磁力攪拌，無(wú)需外接立式攪拌機(jī)，減少冗繁操作
5.可選配槽體內(nèi)置的冷卻盤管，對(duì)系統(tǒng)的放熱反應(yīng)進(jìn)行快速的降溫和控制
6.可選配高度可調(diào)浸入式載物平臺(tái)，輕松調(diào)節(jié)浸入樣品的液面高度
7.可選配臥式造型，具有結(jié)構(gòu)緊湊、重心降低、穩(wěn)定性強(qiáng)等特點(diǎn)

關(guān)鍵詞：低溫冷卻液循環(huán)泵折光儀旋光儀生物發(fā)酵罐鍍膜機(jī)