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鄭州科探儀器設備有限公司
產(chǎn)品型號KT-Z1650CVD
品 牌其他品牌
廠商性質生產(chǎn)商
所 在 地鄭州市
聯(lián)系方式:鄭州科探儀查看聯(lián)系方式
更新時間:2023-04-18 15:50:35瀏覽次數(shù):254次
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實驗室小型高溫蒸鍍有機物薄膜制備鍍膜儀是鄭州科探儀器設備有限公司生產(chǎn),臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存,高性價比,非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
一、技術原理:
(1)實驗室小型高溫蒸鍍有機物薄膜制備鍍膜儀,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
(2)通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。
二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色:
★玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;
★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準無油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);
★兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長時間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計;
★專業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;
★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;
★襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;
★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻;
★可沉積金屬(Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等)、非金屬、化合物(MoO3,LiF等)及有機物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
★7寸顯示器定時定點調節(jié)電流,達到控制功率效果;
★具有記憶儲存功能,直接調出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果;
★配置了靶臺擋板,可手動調節(jié)或自動調節(jié)擋板,及時遮擋樣品,保證樣品效果;
三、技術支持&服務:
1.技術支持:在合同簽訂之前,我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下,為客戶做出*的選型和方案設計,使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等,以幫助客戶做出正確的選擇。
2.安裝與培訓:在產(chǎn)品使用前,我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術支持、培訓及演示服務。
3.產(chǎn)品質保:我們對產(chǎn)品提供12個月的質保期,在質保期內(nèi)發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。(耗材和易損件除外)
4.終身維護:我們對提供的產(chǎn)品提供終身服務,對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費,免除一切人工費用。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
四、實驗室小型高溫蒸鍍有機物薄膜制備鍍膜儀技術資料:
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最1大功率 | ≤1200W |
最1大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 (最1大可安裝φ50基底) |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |
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