反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用

詳細(xì)介紹

應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：刻蝕速率控制方便，耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)

★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或高真空系統(tǒng)。雙片裝，樣品自動(dòng)運(yùn)送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺(tái)：可升降，包含水冷

★電源配置：下電偏壓，包含自動(dòng)匹配

★氣路數(shù)量與種類：6路氣路，其中2路耐腐蝕VCR焊接或用戶選配

★He冷背吹系統(tǒng)：可選配

★終點(diǎn)檢測(cè)控制：可選配質(zhì)譜儀

★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制

關(guān)鍵詞：工作臺(tái) 質(zhì)譜儀

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，環(huán)保在線對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。溫馨提示：為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE）

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