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ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜機(jī)，ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜設(shè)備

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ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜機(jī)，ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜設(shè)備

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ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜機(jī)，ITO導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜設(shè)備

MSC系列真空磁控濺射鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術(shù)品、玩具、車(chē)燈反光罩、手機(jī)按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象，早在1842年Grove在實(shí)驗(yàn)室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場(chǎng)，磁場(chǎng)為曲線(xiàn)形，均勻電場(chǎng)和對(duì)數(shù)電場(chǎng)則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場(chǎng)作用下，加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，若電子具有足夠的能量（約為30ev）時(shí)，則電離出Ar+并產(chǎn)生電子，電子飛向基片，Ar+在電場(chǎng)作用下，加速飛向陰極（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。

本公司的磁控濺射鍍?cè)O(shè)備有以下幾大特點(diǎn)：1）膜厚可控性和重復(fù)性好，能夠可靠的鍍制欲定厚度的薄膜，并且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；2）薄膜與基片的附著力強(qiáng)，并且部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴(kuò)散層；3）可以制備特殊材料的薄膜，可以制膜層可以使用不同的材料同時(shí)濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；4）膜層純度高，濺射膜層中不會(huì)混入坩鍋加熱器材料的成份。

關(guān)鍵詞：鍍膜機(jī) 加熱器