硅片超聲波清洗機(jī)
產(chǎn)品類型:VGT-6048F
清洗方法:
十全十美的事物不在話下;的機(jī)會(huì)也不在一時(shí)之間;而是勇于抓取其中之一的機(jī)會(huì),哪怕是0.99%的機(jī)遇。所以,硅片超聲波清洗機(jī)主要抓取了本身僅存在的優(yōu)勢(shì):“物理清洗和化學(xué)清洗”。
物理清洗分為三種:
①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。
②高壓清洗:是用液體噴射片子表面,噴嘴的壓力高達(dá)幾百個(gè)大氣壓。高壓清洗靠噴射作用,片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會(huì)產(chǎn)生靜電作用,靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。
③超聲波清洗:超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段,清洗效果更好。
化學(xué)清洗:是為了除去原子、離子不可見的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗(硫酸、硝酸、王水、各種混合酸等)和等離子體法等。其中雙氧水體系清洗方法效果好,環(huán)境污染小。一般方法是將硅片先用成分比為H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的強(qiáng)氧化性,將有機(jī)物分解而除去;用超純水沖洗后,再用成分比為H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的堿性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的絡(luò)合作用,許多金屬離子形成穩(wěn)定的可溶性絡(luò)合物而溶于水;然后使用成分比為H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液,由于H2O2的氧化作用和鹽酸的溶解,以及氯離子的絡(luò)合性,許多金屬生成溶于水的絡(luò)離子,從而達(dá)到清洗的目的。
適用范圍:
威固特主要適用于硅片、精密元器件、電子真空器件等等。
技術(shù)參數(shù):
超聲波功率:2400W
超聲波頻率:28,40,60KHZ
換能器數(shù)量:48PCS
電源電壓:單相22VAC,三相380VAC