真空燒結爐配套瑞澤氬氣純化裝置
一、真空燒結爐配套瑞澤氬氣純化裝置概述
氬氣作為真空爐的冷卻、保護氣，為了提高產品的質量，通過使用本公司生產的氬氣純化裝置，純化后氬氣的純度大于99.9995%；當氬氣中雜質氧含量小于1ppm時，水分也小于2.5ppm時，制作出的產品其碳化合物含量就小于1ppm，這樣就大大提高了產品質量，贏得客戶的滿意和市場的需求。
一般液氬純度是符合99.995%要求的。由于汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在3ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了本公司提供的氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，純度始終是恒定的。這樣穩(wěn)定的氬氣質量有助于提高產品質量、提高生產效率。
二、本公司生產的真空爐配套氬氣純化裝置對原料氬氣要求
一般瓶裝純氬，液氬、控制較好的管道氬氣。
雜質要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
輸出純氣
純度：99.9998%
雜質含量：
O2≤0.5PPm，
H2O≤1PPm(即露點≤－76℃)，
CO+CO2≤0.1PPm，
S、P的氧化物≤0.1PPm。
塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個／升。
工作壓力：0.4-1.5MPa。
處理氣量：4NM3/h（其余流量需要定制）。
三、設備特點
1) 催化劑活性高，凈化后的氣體純度高。
2) 雙式結構，一組工作另一組再生備用，故能*連續(xù)供氣。
3) 采用本機純氣吹掃的再生流程，再生不用氫，故不需機房，安全性好。材料（如高溫石墨化爐、碳化爐、真空燒結爐以及各種碳素材料的碳化及石墨化加熱設備、單晶硅、多晶硅、高純金屬、貴金屬）生產的保護氣氛。
4) 設備操作方式分有半自動操作和全自動操作方式，更有效的滿足用戶選擇性。
