真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：

真空等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。真空等離子清洗機(jī)的原理是先產(chǎn)生真空,在真空狀態(tài)下,壓力越來(lái)越小,分子間間距越來(lái)越大,分子間力越來(lái)越小,利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔活化的目的。

真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

進(jìn)口不銹鋼316材質(zhì)真空腔體：避免氣體泄露，又實(shí)現(xiàn)高效好的真空度，為等離子體創(chuàng)造好的反應(yīng)條件。

采用進(jìn)口品牌技術(shù)等離子射頻電源，13.56Mhz,確保高能量，高密度，均勻等離子體產(chǎn)生，確保出眾的表面處理效果。

真空系統(tǒng)：雙組真空泵組 ，真空電磁角閥、充氣閥、DN40不銹鋼真空波紋管；耐高溫、抗氧化、無(wú)排放污染，泵具有可自行緩解溫度過(guò)高的散熱體系，無(wú)需水冷。

清洗后的材料表面基本沒有殘留物,并且可以通過(guò)選擇、搭配不同的等離子體清洗類型,產(chǎn)生不同的清洗效果,滿足后續(xù)處理工藝對(duì)材料表面特性的多種需求;

由于等離子體的方向性不強(qiáng),因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的物件,適用性較強(qiáng);

可處理多種基材,對(duì)待清洗物件的要求較低,因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料;

清洗過(guò)后無(wú)需干燥或其他工序,無(wú)廢液產(chǎn)生,同時(shí)其工作氣體排放無(wú)毒害,安全環(huán)保;

影響等離子清洗機(jī)處理效果的常見參數(shù)：

氣體種類:待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性,而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對(duì)性地選擇等離子體的工作氣體,如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢,選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。

放電功率:放電功率增大,可以增加等離子體的密度和活性粒子能量,因而提高清洗效果。例如,氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。

暴露時(shí)間:待清洗材料在等離子體中的暴露時(shí)間對(duì)其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時(shí)間越長(zhǎng)清洗效果相對(duì)越好,但工作效率降低。并且,過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的清洗可能會(huì)對(duì)材料表面產(chǎn)生損傷。

其他:等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會(huì)影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)。

真空等離子清洗機(jī)TS-PL180L，整機(jī)緊湊，性能穩(wěn)定，處理效果均勻穩(wěn)定，核心部件進(jìn)口配置，相對(duì)于進(jìn)口設(shè)備，性價(jià)比高。等離子體清洗技術(shù)自問(wèn)世以來(lái),其應(yīng)用便隨著電子等工業(yè)的快速發(fā)展而逐漸增多。目前,等離子體清洗在半導(dǎo)體與光電工業(yè),汽車、醫(yī)學(xué)、裝飾等多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域得到推廣應(yīng)用。近年來(lái),等離子體清洗技術(shù)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用在聚合物表面活化、電子元器件制造、塑料膠接處理、提高生物相容性、防止生物污染、微波管制造、精密機(jī)械零件清洗等領(lǐng)域。