無(wú)塵凈化工程介紹

 無(wú)塵凈化工程重要的作用在于控制產(chǎn)品(如硅片等)與空氣接觸的空氣保持清潔度和溫濕度，以使產(chǎn)品能夠在良好的環(huán)境空間生產(chǎn)、制造，該空間我們稱之為潔凈室。根據(jù)國(guó)際上的慣例，無(wú)塵凈化水平主要由每立方米空氣中微粒的粒徑大于分度標(biāo)準(zhǔn)來(lái)確定。這就是說(shuō)，無(wú)塵并不是99%沒(méi)有塵埃，而是被控制在非常微量的單位上。對(duì)于光學(xué)構(gòu)造來(lái)說(shuō)，這一標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)塵埃標(biāo)準(zhǔn)的粒子，相對(duì)于普通塵埃來(lái)說(shuō)已經(jīng)微不足道了，但對(duì)于光學(xué)構(gòu)造來(lái)說(shuō)，即使是一點(diǎn)塵埃也會(huì)產(chǎn)生很大的負(fù)面影響，因此，無(wú)塵是光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的必然要求。

 控制微塵量小于0.3微米，每立方米應(yīng)控制在3500微米以下，達(dá)到國(guó)際無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)。適用于晶片級(jí)生產(chǎn)和加工的無(wú)塵標(biāo)準(zhǔn)對(duì)粉塵的要求高于，這種高標(biāo)號(hào)主要用于某些等級(jí)的芯片生產(chǎn)。

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