型號:ALD-1200X-R-4
產(chǎn)品概述:ALD-1200X--R-4是一款4英寸ALD旋轉(zhuǎn)管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng),可利用此系統(tǒng)進行粉末表面的ALD和CVD包覆。該系統(tǒng)簡潔的設(shè)計使得更多的科研院所能夠在可負(fù)擔(dān)的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
控制面板 | l 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制
l 兩個ALD進氣閥
l 一個精密的4通道質(zhì)子流量計系統(tǒng)
l 請點擊下圖查看控制面板(點擊圖片查看詳細(xì)資料)
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ALD進氣閥 | 兩個ALD脈沖電磁閥(最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉)
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精密液體氣相發(fā)生器 | 精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進氣閥
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旋轉(zhuǎn)管式爐 |
l 連續(xù)工作的溫度為1100℃
l 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制,而且都為PID30段程序化控溫
l 輸入電壓:208-240V AC,單向
l 功率為4KW
l 爐管旋轉(zhuǎn)速度:0-10rpm
l 回轉(zhuǎn)爐爐管結(jié)構(gòu)如下圖所示:
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真空計 | 公司具有多種真空機可供選(點擊下圖鏈接)
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真空泵(選配) |
公司具有多種真空泵可供選配(點擊下圖鏈接)
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更多可選配件 | l 可選購氣液混合裝置,用于CVD系統(tǒng)(圖1.2)
l 可選購恒溫控制模塊(圖3)
l 可選購金石英測試晶體(圖4)以及熱電偶用于薄膜厚度以及溫度的測試
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質(zhì)保期 | 一年保質(zhì)期,終身維護(不包含爐管,加熱元件和密封圈) |
質(zhì)量認(rèn)證 | 所有電器元件(>24V)均滿足CE/UL/MET/CSA認(rèn)證,如您另付費用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認(rèn)證 |
注意事項 | l 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
l 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全
l 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)
l 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
l 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 |
相關(guān)應(yīng)用 | 可利用ALD系統(tǒng)顯著降低石榴石結(jié)構(gòu)固態(tài)電解質(zhì)與電極之間的高的固固界面阻抗,相關(guān)文獻:Negating interfacial impedance in garnet-based solid-state Li metal batteries |