型號:ALD-1200X-4
產(chǎn)品概述:ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個ALD進(jìn)氣閥、1個精密液體氣相發(fā)生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設(shè)計使得更多的科研院所能夠在可負(fù)擔(dān)的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
控制面板 | · 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數(shù)均可通過一6英寸接觸屏由PLC進(jìn)行控制 · 兩個ALD進(jìn)氣閥 · 請點擊下圖查看控制面板(點擊圖片查看詳細(xì)資料) |
ALD進(jìn)氣閥 | 兩個ALD脈沖電磁閥(最小可在10ms完成閥門的開啟或關(guān)閉)
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精密液體氣相發(fā)生器 | 精密液體氣相發(fā)生器包含在本系統(tǒng)中并且連接到ALD進(jìn)氣閥
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雙溫區(qū)管式爐 | · 連續(xù)工作的溫度為1100℃ · 兩個溫區(qū)由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制,而且都為PID30段程序化控溫 · 每個加熱區(qū)長度為200mm,加熱區(qū)總長度為400mm · 爐管兩端放置管堵時兩溫區(qū)的溫度差為500℃ · 輸入電壓:208-240V AC,單向 功率為4KW
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防腐型數(shù)顯真空計 |
· 測量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr · 耐腐蝕 · 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復(fù)性 · 可實現(xiàn)快速的氣體監(jiān)測,響應(yīng)時間較短 易于更換插頭及傳感元件 |
真空泵(選配) | · 管內(nèi)真空度可達(dá)10-2Torr 真空泵不包含在本系統(tǒng)內(nèi),如您進(jìn)行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵 |
混氣系統(tǒng) | · 可選購氣液混合裝置,用于CVD系統(tǒng) · 可選購恒溫控制模塊 |
更新觀念 | · 您可采用ALD設(shè)備搭建等離子增強(qiáng)原子層沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+CVD)和等離子增強(qiáng)原子層沉積+物理氣相沉積+化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PE-ALD+PVD+CVD),用于生長各類材料 · ( PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD) |
質(zhì)保期 | 一年保質(zhì)期,終身維護(hù)(不包含爐管,加熱元件和密封圈) |
質(zhì)量認(rèn)證 | · CE認(rèn)證 · 所有電器元件(>24V)均滿足UL/MET/CSA認(rèn)證 · 如您另付費(fèi)用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認(rèn)證 |
注意事項 | · 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa · 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 · 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài) · 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 · 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭 本公司有權(quán)隨時修改PE-CVD系統(tǒng)的設(shè)計不再另行通知,但我們保證修改之后的儀器質(zhì)量可以達(dá)到和超過上述標(biāo)準(zhǔn) |