Lumis EBSD 探測(cè)器采用了較*的 CMOS 傳感器技術(shù),配有高級(jí)光學(xué)元件,使用加速索引算法,和低至 10 pA 及更低的束流來(lái)分析電子背散射花樣 (EBSP) 。
該探測(cè)器采用 > 220 萬(wàn)像素模式采集,非常適合 HR-EBSD 應(yīng)變測(cè)量和用于相鑒別。
使用光學(xué)和傳感器組合,可優(yōu)化探測(cè)器從而以每秒數(shù)千幀的速度進(jìn)行高速 EBSD,以縮短采集時(shí)間并提高樣品處理量。高級(jí)光學(xué)元件和較高的傳感器靈敏度允許在低于 10 pA 的超低束流下采集 EBSP。這對(duì)于電子束敏感和劑量受限材料或者在較高的束流可能導(dǎo)致污染或漂移的情況下尤其重要。
一種大規(guī)格 CMOS 傳感器和一個(gè)反向變焦光學(xué)元件,以補(bǔ)充和擴(kuò)展內(nèi)置 CMOS 傳感器組合。高效、八邊形閃爍器將背散射電子轉(zhuǎn)換為光,通過(guò)高質(zhì)量的反向變焦光學(xué)元器件聚焦到傳感器的用戶控制區(qū)域。這允許連續(xù)選擇“合并”EBSP 大小,并為 EBSP 速度、質(zhì)量和靈敏度提供靈活性。