簡介
scia Coat 500雙離子束濺射鍍膜機,用于精密光學(xué)的大尺寸基板的高均勻性鍍膜,菜單控制的沉積過程可保證鍍膜質(zhì)量的重復(fù)性。最多可以允許4種擋板,可以提高均勻性,也可以沉積設(shè)計的梯度薄膜。
常規(guī)屬性
- 主離子源用于濺射靶材到樣品基底上,沉積成膜;次離子源用于樣品表面離子束轟擊清洗或輔助鍍膜。
- 可沉積介質(zhì)和金屬膜,用于光學(xué)濾波器、X射線反射鏡、同步輻射鏡等
- 可沉積漸變膜(比如Gobel 鏡)
- 具有在線基底預(yù)處理 (刻蝕、清洗、平滑化)功能
- 通過基板旋轉(zhuǎn)與線性運動的疊加,可以獲得的沉積均勻性
- 轉(zhuǎn)鼓靶架上最多可有6個水冷靶材料,用于在線更換
- 使用石英晶振和/或光學(xué)厚度監(jiān)視器(OTM),菜單式控制多層膜沉積
- 通過線性軸運動控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)梯度薄膜沉積或表面誤差校正
- 可選襯底加熱至250°C以優(yōu)化薄膜應(yīng)力
系統(tǒng)性能