徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200概述 | ||
樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電,并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比。 Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空、鍍膜、放氣等全過程,一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便。 | ||
徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200性能 | ||
• *重現(xiàn)結(jié)果:運(yùn)行自動化的進(jìn)程,并協(xié)助參數(shù)設(shè)置 • 小巧緊湊:設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小節(jié)省了實(shí)驗(yàn)室空間 • 容易清洗:具備可拆卸門、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、載物臺 • 操作簡便:直觀的觸摸屏和一鍵式操作 | ||
技術(shù)參數(shù) | ||
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式, 可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化) | ||
設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可精確控制碳膜厚度 | ||
可選石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm | ||
全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程 | ||
觸摸屏控制,簡單方便 | ||
真空度≤7x10-3mbar | ||
濺射電流:0-150mA可調(diào) | ||
方形樣品倉設(shè)計(jì),樣品倉尺寸:140mm(寬)x145mm(深)x150mm(高) | ||
工作距離調(diào)節(jié)范圍:30-100mm |
鏈能金相實(shí)驗(yàn)設(shè)備南京有限公司
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樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電,并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比。
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。