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北京華科易通分析儀器有限公司
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所 在 地北京市
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更新時間：2018-05-14 09:00:00瀏覽次數(shù)：1195次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線華科易通ICP硅鐵材料光譜分析儀作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè)，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。
北京華科易通分析儀器有限公司，是電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀華科易通ICP硅鐵材料光譜分析儀的專業(yè)制造廠商。它是集科研、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀華科易通ICP硅鐵材料光譜分析儀，是我公司在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，吸收新技術(shù)成果研制開發(fā)的新產(chǎn)品。
華科易通ICP硅鐵材料光譜分析儀作為一種大型精密無機分析儀器，廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè)，以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)，出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。
它是集光、機、電、計算機、分析技術(shù)于一體的*產(chǎn)品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結(jié)果準確、可靠等特點。由于采用了計算機技術(shù)，儀器實現(xiàn)了高度智能化，從分析處理到數(shù)據(jù)采集等環(huán)節(jié)都達到了目前國內(nèi)*水平，是一種十分理想的分析儀器。
公司以一批多年積累的技術(shù)成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾，以其豐富的工作經(jīng)驗和和完善熱情的服務(wù)為保障，竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩(wěn)定性的等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)品。
原子發(fā)射光譜法是光學(xué)分析法中產(chǎn)生與發(fā)展zui早的一種。
原子發(fā)射光譜法是利用物質(zhì)在熱激發(fā)或電激發(fā)下，每種元素的原子或離子發(fā)射特征光譜來判斷物質(zhì)的組成，而進行元素的定性與定量分析的方法。
HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。
等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負載線圈（內(nèi)通冷卻水）當高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流（工作頻率40.68MHz功率1kW左右）通過線圈時，其周圍產(chǎn)生交變磁場，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子，在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子，在炬管內(nèi)形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下，使原子電離，即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài)，將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上，分光后的待測元素特征譜線光強，通過計算由步進電機轉(zhuǎn)動光柵傳動機構(gòu)，準確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏?，再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后，由計算機進行數(shù)據(jù)處理，zui后由打印機打出分析結(jié)果。
原子發(fā)射光譜分析的優(yōu)點：
① 具有多元素同時檢測能力?？赏瑫r測定一個樣品中的多種元素。
② 分析速度快?？稍趲追昼妰?nèi)同時對幾十種元素進行定量分析。
③ 檢出限低。一般光源可達10～0.1mg/mL, 電感耦合高頻等離子體原子發(fā)射光譜（ICP-AES）檢出限可達ng/mL級。
④準確度較高。一般光源相對誤差約為5％~10％，ICP-AES相對誤差可達l％以下。
⑤試樣消耗少。
⑥ ICP光源校準曲線線性范圍寬可達4～6個數(shù)量級。
掃描范圍 ：光柵3600條刻線/mm,掃描范圍（190～500）nm
光柵2400條刻線/mm,掃描范圍（190～800）nm
波長示值誤差：±0.03nm，重復(fù)性≤0.005nm。
zui小光譜帶寬：Mn 257.610nm，譜線峰半高寬≤0.008nm。
重復(fù)性：相對標準偏差 RSD≤1.50%
穩(wěn)定性：相對標準偏差 RSD≤2.00%
工作環(huán)境及設(shè)施要求
1.1儀器正常工作環(huán)境
溫度：20-28℃（溫度變化率2℃/h以內(nèi)）。
其它：室內(nèi)清潔、干燥、無灰塵、無腐蝕性氣體、無震動等，門窗密封要好，以防風沙和潮氣進入室內(nèi)。
1.2實驗室*條件
在儀器安裝調(diào)試之前、用戶對儀器工作場所及設(shè)施必須滿足本節(jié)所要求各項條件；
1.2.1 房間
房間15平方米左右為宜、有放標液的試劑柜，試劑架，電腦桌及電腦椅等，并安裝2匹以上的空調(diào)。
1.2.2 電源要求
1.電源的功率、電壓、頻率要求
（1）主機：單相交流220V±10%、50Hz。
（2）微機、打印機：單相交流220V±10%、50Hz、400W。
（3）智能控溫冷卻循環(huán)水箱（參見配置）：單相交流220V±10%、50Hz、1.5KW。
（4）排風設(shè)備：單相交流220V±10%、50Hz、15W。
2.接地
為了保證儀器安全穩(wěn)定工作，儀器必須單獨接地，用不小于長300mm×寬300mm×厚3mm的紫銅板埋于地下1.5m深處，用寬30mm×厚0.5mm的紫銅帶焊接，接到室內(nèi)儀器接地處，且埋紫銅板處加1kg以上食鹽并加入適量水,使電阻< 4Ω。
1.2.3排風要求
（1） 使用ICP進行分析測試時，排出的氣體主要是氬氣，但也有部分金屬蒸氣和生成的多種氣態(tài)物質(zhì)，因此ICP進樣系統(tǒng)上方應(yīng)安裝排風設(shè)備。
（2） 抽風口應(yīng)裝置在主機ICP等離子體室上方,排風設(shè)備的安裝尺寸與方式可參考下圖。
（3） 排風量大小，以一張紙貼在抽風口處，能被輕輕吸住為宜。太大影響火焰穩(wěn)定性；太小，起不到排風作用。具體情況視排風管道長短、粗細、走向而定。
（4） 排風管道我們建議用戶用Ø110mm的PVC管4米,彎頭1-2個,管箍一個、三通1個，及Ø160mm的PVC管0.5m、Ø110mmPVC與Ø160mm的PVC變經(jīng)來連接,風機（廠家贈送）。
1.2.4氣源要求
氬氣：使用鋼瓶裝氬氣99.99%至少兩瓶。配氧氣減壓調(diào)節(jié)表兩塊，入口壓力2.5MPa，出口壓力調(diào)節(jié)范圍0－1MPa ，使用時出口壓力均調(diào)節(jié)為0.25MPa。
1.2.5冷卻水要求： 冷卻水供ICP運行時使用
（1）水壓達到0.1 MPa、流量5升/分鐘以上，冷卻水電阻大于1MΩ。
（2）水源出口處應(yīng)安裝與外徑Ø10mm塑料管相配的接頭。
（3）如配置了我公司生產(chǎn)的智能溫控冷卻循環(huán)水箱，用戶只準備35升蒸餾水即可。
1.3 實驗室其它要求
1.3.1 ICP光譜儀落地可移動且自帶操作臺。用戶只需準備放標液和試液用的試劑架和試劑柜以及電腦桌即可。
1.3.2 本儀器是一種大型精密無機分析儀器，配有微機，要求使用環(huán)境清潔無塵，室溫不宜劇烈變化，為防止酸、堿及其它腐蝕性氣體侵蝕儀器，ICP室必須和化學(xué)室分開。
1.3.3 對于用ICP分析超微量（尤其是Ca、Mg、Si、Zn、P）及易受環(huán)境污染的元素，其室內(nèi)環(huán)境和所用器皿要特別小心，使用的去離子水或石英二次蒸餾水確保合格。
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