污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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更新時(shí)間:2022-07-18 11:16:46瀏覽次數(shù):196次
聯(lián)系我時(shí),請告知來自 環(huán)保在線光學(xué)鏡片純水設(shè)備包括四個(gè)流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因?yàn)橄礈爝^程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有*行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗;也有*行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進(jìn)行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
光學(xué)鏡片純水設(shè)備概述:
光學(xué)鏡片純水設(shè)備包括四個(gè)流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因?yàn)橄礈爝^程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有*行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗;也有*行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進(jìn)行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
光學(xué)鏡片純水設(shè)備水質(zhì)要求:
手機(jī)面板、光學(xué)鏡片、光學(xué)玻璃清洗對超純水水質(zhì)要求高,帶電力離子和污垢會(huì)對鏡片產(chǎn)生不可逆損害,終端水質(zhì)要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。
光學(xué)鏡片純水設(shè)備技術(shù)要求:
光電光學(xué)玻璃行業(yè)的超純水設(shè)備主要是為玻璃清洗時(shí)給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設(shè)備設(shè)計(jì)上,采用成熟、可靠、自動(dòng)化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用主流可靠產(chǎn)品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,系統(tǒng)穩(wěn)定性高。
光學(xué)鏡片純水設(shè)備標(biāo)準(zhǔn):
1.研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量(外觀和精度)的重要工序。
2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的加工過程中會(huì)有漆片。
3.其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。
4.根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。
5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。
6.玻璃研磨過后,需要用超純水進(jìn)行產(chǎn)品的清洗,以獲得高品質(zhì)的產(chǎn)品。
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主營產(chǎn)品:反滲透純水機(jī),EDI超純水機(jī),軟化水設(shè)備,離子交換裝置,海水淡化工程,中水回收系統(tǒng),UF超濾設(shè)備,精密過濾設(shè)備,保安過濾器,砂炭過濾設(shè)備,水處理配件耗材
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