數(shù)字式pH/ORP組合電極
Memosens CPS76E

Memosens 2.0組合電極，適用于化工工藝過程和有毒介質(zhì)測量

E+H CPS76ES水質(zhì)分析pH/ORP電極

各類應(yīng)用中的液體分析

用于液體分析中各類參數(shù)測量的完整的產(chǎn)品系列

環(huán)境保護、穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量、過程優(yōu)化和安全性 –這些僅僅是液體分析日益重要的部分原因。水、飲料、乳制品、化學(xué)品和藥品等液體分析已經(jīng)成為日常工作。我們?yōu)槟峁嶋H應(yīng)用經(jīng)驗和良好的測量技術(shù)，完成您的測量任務(wù)。從 全面的產(chǎn)品系列中選取合適的儀表，滿足您的過程需求。

Memosens CPS76E是嚴苛工況測量專家，能夠同時進行pH和ORP測量。抗污型參比系統(tǒng)，可靠測量重度污染介質(zhì)和低電導(dǎo)率介質(zhì)。CPS76E采用Memosens 2.0 數(shù)字技術(shù)，具有高過程完整性，操作非常簡單。防水防潮設(shè)計，允許實驗室傳感器標定，支持擴展數(shù)據(jù)存儲，保存標定參數(shù)和過程參數(shù)。是實施預(yù)維護的基礎(chǔ)。

優(yōu)勢
Memosens 2.0支持擴展儲存單元，保存標定參數(shù)和過程參數(shù)，能夠更好地進行趨勢識別，為未來實施預(yù)維護和改進IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)服務(wù)提供的基礎(chǔ)。

同時測量pH、ORP和rH值（在rH模式中），能夠提供豐富過程信息，是嚴格過程控制的堅實基礎(chǔ)。

可選帶壓參比系統(tǒng)，可靠測量易堵塞介質(zhì)，比如分散液。

電極帶專用離子捕捉阱，有效防止引線和參比系統(tǒng)的毒性擴散，確保長使用壽命。

允許電極倒裝，安裝靈活。

采用非接觸式感應(yīng)信號傳輸方式，具有高過程安全性。

盡可能縮短生產(chǎn)停機時間，延長了電極使用壽命，降低了運營成本。E+H CPS76ES水質(zhì)分析pH/ORP電極

支持IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)： Memosens 2.0支持擴展存儲單元，保存標定參數(shù)和過程參數(shù)，更好地進行趨勢識別，為未來實施預(yù)維護和改進IIoT工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)服務(wù)提供基礎(chǔ)。

低使用成本：支持實驗室標定，現(xiàn)場在線快速更換電極，盡可能縮短生產(chǎn)停機時間，電極使用壽命更長。

堅固耐用、低維護需求的電極：長毒性擴散路徑或經(jīng)優(yōu)化的離子捕捉阱，避免參考電極毒性擴散。大面積抗污型PTFE隔膜，避免被介質(zhì)污染。

玻璃電極可以在整個pH測量范圍內(nèi)，過程絕壓不超過17 bar (246.5 psi)的條件下測量。在含有氫氟酸的介質(zhì)中測量時候可選F型玻璃電極，例如在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的蝕刻槽。

改進的可選鹽橋功能，確保在低電導(dǎo)率應(yīng)用場合中能夠可靠測量，例如測量鍋爐給水。

采用非接觸式感應(yīng)信號傳輸方式，具有高過程信號完整性。

應(yīng)用領(lǐng)域
化工工藝過程和過程監(jiān)測：

pH值或ORP值快速波動

高濃度毒性介質(zhì)，比如H2S

通過ATEX、IECEx、CSA C/US、NEPSI、JPN、INMETRO認證，可以在防爆0區(qū)、1區(qū)和2區(qū)中使用。E+H CPS76ES水質(zhì)分析pH/ORP電極

產(chǎn)品規(guī)格參數(shù)

• 測量范圍

  ORP: –1 500 to 1 500 mV
  Application B
  • pH: 0 to 14
  Application H
  • pH: 0 to 12

• 過程溫度

  Application B and H:
  0 to 140 ° C (32 to 284 ° F)
  Version TB:
  0 to 140 ° C (32 to 284 ° F)
  Version TU, TP (pressurized reference):
  0 to 140 ° C (32 to 284 ° F) (140 ° C (284 ° F) for sterilization only)
  maximum 100 ° C (212 ° F) in continuous operation due to increasing
  pressure drop at T> 100 ° C (212 ° F)

• 過程壓力

  Application B: 0.8 to 14 bar (11.6 to 203 psi) absolute
  Application H: 0.8 to 7 bar (11.6 to 101,5 psi) absolute

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