污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)IoN Wave 10/ PS 210
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間：2023-05-29 16:53:32瀏覽次數(shù)：2104次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線IoN Wave 10 等離子體去膠機(jī)是PVA TePla 在微波等離子體處理工藝中的產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適用、性能*。
IoN Wave 10 使用的、性能出色的組件和軟件，可對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。其工藝監(jiān)測(cè)和數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)現(xiàn)Z嚴(yán)格的質(zhì)量控制。
IoN Wave 10 占地面積小，安裝維護(hù)簡(jiǎn)單。依靠微波等離子體技術(shù)，提供*的光刻膠灰化速度。
PVA-TePla微波等離子體去膠機(jī)（*），性能穩(wěn)定，去膠均勻。
典型應(yīng)用：
去除光刻膠 Photo-resist stripping
去除殘膠 Wafer descum
晶圓和襯底的清潔 Wafer and substrate cleaning
su-8灰化 Su-8 ashing
氮化硅、聚酰亞胺等的刻蝕 Etching of silicon nitride, pi, etc.
刻蝕鈍化層 Etching of passivation layers
逆向分析/失效分析中的器件開(kāi)封 Device decapsulation for failure analysis
微量分析中低溫材料灰化 low temperature ashing of materials for chemical trace analysis
過(guò)濾器和薄膜的清潔 Cleaning of filters and membranes
規(guī)格參數(shù)：
2.45GHz風(fēng)冷微波電源（0～600w可調(diào)），
石英或陶瓷腔體，
防腐蝕不銹鋼MFC,
多至6路氣體，
兼容8英寸及以下晶圓
PC 工控機(jī)控制，運(yùn)行數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)；分級(jí)控制權(quán)限，防止操作
圖形化觸控屏界面，運(yùn)行狀態(tài)圖形化實(shí)時(shí)顯示。
自動(dòng)/手動(dòng)隨意切換
可選配法拉第桶
可選配溫控系統(tǒng)
可選配壓力控制系統(tǒng)
外形尺寸：775×749×781 mm
認(rèn)證：
CE 認(rèn)證
EN 61010
EN 61326
Semi E95
ISO 9001
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