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奧林巴斯BX51M金相顯微鏡 產(chǎn)品說明

暗視場觀察法

Darkfield
表面安裝板

暗視場可以讓用戶觀察來自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會先穿過照明裝置中的環(huán)形光學(xué)照明器件，然后在樣本上聚焦。樣本上的光線只是由Z 軸上的瑕疵反射形成的。因此，用戶可以觀測到比光學(xué)顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本，包括晶圓。

偏振光觀察法

Polarized Light
石棉

該顯微觀察技術(shù)所使用的偏振光是由一組濾鏡（檢偏振器和起偏振器）產(chǎn)生的。樣本特征會直接影響系統(tǒng)反射光的強度。該觀察法適用于觀察金相組織（例，球墨鑄鐵中石墨的生長圖案）、礦物、LCD 和半導(dǎo)體材料。

微分干涉（DIC）觀察法

Differential Interference Contrast (DIC)

奧林巴斯BX51M金相顯微鏡

磁頭

DIC 是一種顯微觀察技術(shù)，可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異，用增強的對比度以浮雕或三維圖像的形式表現(xiàn)出來。該項基于偏振光的技術(shù)，擁有三個專門設(shè)計的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適用于檢測高度差異極其微小的樣本，包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。

熒光觀察法

Fluorescence
半導(dǎo)體晶圓上的顆粒

該項技術(shù)適用于觀察那些在受到專門設(shè)計的濾鏡（可以按照檢測需要制作）照明時會發(fā)出熒光（發(fā)出不同波長的光線）的樣本。該方法通過熒光染色，應(yīng)用于觀測半導(dǎo)體晶圓表面的污物、抗蝕劑的殘渣和裂痕的檢測?？梢蕴砑舆x購的復(fù)消色差光源聚光透鏡系統(tǒng)，從而為可見光到近紅外線范圍內(nèi)的色差進(jìn)行補償。

IR（紅外線）觀察法

Infra-Red (IR)
硅晶片層下的半導(dǎo)體電路

對使用了硅片、玻璃等易透射紅外線的電子設(shè)備的內(nèi)部進(jìn)行無損檢測時，IR 觀察十分有效。IR 物鏡也可用于近紅外線技術(shù)，如：拉曼光譜儀和YGA 激光修復(fù)應(yīng)用。

處理濾鏡

Processing Filter
枝晶

OLYMPUS Stream 擁有各種濾鏡，可用于邊緣檢測、平滑處理和其它操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進(jìn)行增強和修改處理后，圖像的特征變?yōu)榭梢暬?。為達(dá)到效果，可使用預(yù)覽圖檢查或調(diào)整濾鏡的效果。

透射光觀察法

Transmitted Light Observation
LCD彩色濾鏡

對于透明樣本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通過使用各種透射光聚光鏡實現(xiàn)真正的透射光觀察。使用透射光可以在明視場、暗視場、DIC 和偏振光中對樣本進(jìn)行成像和檢查--所有這些都在一個便捷的系統(tǒng)里。

自動制作3D 圖像（EFI）

Automated 3D Image Creation (EFI)

硬幣細(xì)節(jié)

使用BX61 或外部電動調(diào)焦單元，便可以快速地記錄并組合超出焦深之外的樣本的圖像。只需一鍵操作，使用EFI 功能便可以將各個不同焦深的圖像合成一幅3D 圖像。zui終的3D數(shù)據(jù)可用于3D 觀察或用于測量高度和距離。

			BX61		BX51	BX51M		BX41M-LED
光學(xué)系統(tǒng)			UIS2光學(xué)系統(tǒng)（無限遠(yuǎn)校正）
機身	照明裝置		反射／透射			反射		反射（對應(yīng)ESD功能）
			外置12 V 100 W光源光量預(yù)調(diào)開關(guān) LED電壓指示反射／透射光轉(zhuǎn)換開關(guān)		內(nèi)裝12 V 100 W光源光量預(yù)調(diào)開關(guān) LED電壓指示反射／透射光轉(zhuǎn)換開關(guān)	內(nèi)裝12 V 100 W光源光量預(yù)調(diào)開關(guān) LED電壓指示		內(nèi)裝3 W白色LED光源光量預(yù)調(diào)開關(guān)
	對焦單元		電動調(diào)焦行程25 mm zui小刻度單位為0.01 μm		行程25 mm 微調(diào)旋鈕1圈的微調(diào)行程為100 μm zui小刻度單位為1 μm 可設(shè)聚焦粗調(diào)上限停止位置，粗調(diào)旋鈕張力可調(diào)
	zui大標(biāo)本高度		25 mm（不包含臂長調(diào)節(jié)器）			65 mm（不包含臂長調(diào)節(jié)器）
觀察筒	廣角視場（視場數(shù)為22）		倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒
	超寬視場（視場數(shù)為26.5）		倒置∶三目鏡筒正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒
反射光照明裝置	明視場等		BX-RLAA 電動明／暗視場轉(zhuǎn)換電動孔徑光闌		BX-RLA2 100 W鹵素?zé)簦裳b高亮度光源、光纖照明裝置）明視場／暗視場／微分干涉／簡易偏振光視場光闌和孔徑光闌（帶中心輸出機構(gòu)）、明／暗視場法連動的ND濾鏡			BX-AKMA-LED/BX-KMA-LED 3 W白色LED照明明視場／微分干涉／簡易偏振光對應(yīng)ESD功能僅BX-AKMA-LED具有的功能：斜射照明裝置 AS（帶中心輸出機構(gòu)）斜射照明的位置設(shè)置
	反射光熒光		BX-RFAA 電動六孔轉(zhuǎn)盤內(nèi)置電動光閘備有視場光闌和孔徑光闌		BX-URA2 100 W汞燈、75 W氙氣燈六孔分光鏡組件（標(biāo)準(zhǔn)∶WB、WG、WU＋BF等）備有視場光闌和孔徑光闌（帶中心輸出機構(gòu)）及光閘機構(gòu)
透射光照明裝置			100 W鹵素?zé)?nbsp; 阿貝聚光鏡／長工作距離聚光鏡內(nèi)置透射光濾鏡（LBD、ND25、ND6）			-
物鏡轉(zhuǎn)換器	明視場用		電動六孔		六孔、中心輸出六孔、七孔（電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件）			五孔、六孔（對應(yīng)ESD功能）、七孔
	明／暗視場用		電動五孔、電動六孔、中心輸出五孔		五孔、中心輸出五孔、六孔（電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件）			-
載物臺			帶左手（右手）用同軸驅(qū)動旋鈕的載物臺：76 (X) × 52 (Y) mm，張力可調(diào) 帶左手（右手）用同軸驅(qū)動旋鈕的大型載物臺：100 (X) × 105 (Y) mm，附設(shè)Y軸鎖定機構(gòu)
ESD性能			-					表面電阻108Ω以下，放電時間少于0.2秒*
外形尺寸			約318（寬） × 602（長）× 541（高）mm		約318（寬） × 602（長） × 480（高）mm	約318（寬） × 602（長） × 480（高）mm		約283（寬） × 455（長） × 480（高）mm
重量			約25.5 kg （機身約重11.4 kg）		約20.8 kg （機身約重10.3 kg）	約19.5 kg （機身約重9.8 kg）		約14 kg （機身約重6.7 kg）
				BXFM			BXFM-S
光學(xué)系統(tǒng)				UIS2光學(xué)系統(tǒng)（無限遠(yuǎn)校正）
機身		對焦單元		行程30 mm、微調(diào)旋鈕1圈的微調(diào)行程為200 μm、zui小刻度單位2 μm、粗調(diào)旋鈕張力可調(diào)
觀察筒		廣角視場（視場數(shù)為22）		倒置∶雙目鏡筒、三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒正象∶三目鏡筒、傾斜式雙目鏡筒
		超寬視場（視場數(shù)為26.5）		倒置∶三目鏡筒正象∶三目鏡筒、傾斜式三目鏡筒
反射光照明裝置		明視場等		BX-RLA2 100 W鹵素?zé)簦裳b高亮度光源、光纖照明裝置）明視場／暗視場／微分干涉／簡易偏振光備有視場光闌和孔徑光闌（帶中心輸出機構(gòu)）			U-KMAS 100 W鹵素?zé)艄饫w照明裝置明視場／微分干涉／簡易偏振光
		反射光熒光		BX-URA2 100 W汞燈、75 W氙氣燈六孔分光鏡組件（標(biāo)準(zhǔn)：WB、WG、WU+BF等）備有視場光闌和孔徑光闌（帶中心輸出機構(gòu)）及光閘機構(gòu)			-
物鏡轉(zhuǎn)換器		明視場用		六孔、中心輸出六孔、七孔（電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件）
		明／暗視場用		五孔、中心輸出五孔、六孔轉(zhuǎn)盤（電動物鏡轉(zhuǎn)換器選購件）
外形尺寸				約248 （寬） × 587 （長） × 249 （高） mm			約394 （寬） × 334 （長） × 276（高） mm
重量				約9 kg（標(biāo)準(zhǔn)組合）			約6.2 kg （標(biāo)準(zhǔn)組合）

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