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磁控濺射蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

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更新時間：2021-04-28 14:36:10瀏覽次數(shù)：630次

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武漢賽斯特精密儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

加工定制	是

磁控濺射蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 加熱溫度：上下雙加熱控制，Z高溫度350度加熱光強波動: 白光< 0.1%，激光< 0.02%

詳細介紹

磁控濺射蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

是針對特定市場和客戶群體開發(fā)的新產(chǎn)品，與目前市場上普遍采用的鍍膜設(shè)備相比具備以下突出優(yōu)勢：單體同步精密監(jiān)控，實時膜厚分布控制。因此適合做各類高難度鍍膜產(chǎn)品。單片薄膜產(chǎn)品的面積越大，優(yōu)勢越明顯。而電子束鍍膜機還增加了雙面鍍膜功能，適合半導(dǎo)體激光器的端面鍍膜。

特點：

1、支持向上或向下的鍍膜方式；

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計，實現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠；

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實際鍍膜工件的監(jiān)控位置，實現(xiàn)了所見即所得；

4、多通道透射式監(jiān)控，配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板，實現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制；

5、支持任意膜厚的控制；

6、通用的控制平臺，友好的人機界面，使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機的所有控制參數(shù)；

7、開放式接口，方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀；

8、氣流和氣壓同時實時控制，適用出氣量大的低溫鍍膜。

磁控濺射蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

工藝參數(shù)：

1、真空系統(tǒng)