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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

武漢賽斯特精密儀器有限公司


經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:1668條

所在地區(qū):湖北武漢市

聯(lián)系人:左斌斌 (銷售經(jīng)理)

  • 紅外后對準雙面刻機 刻蝕機

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    詳細摘要: 原子層沉積表面改造提升處理系統(tǒng) 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區(qū)有機發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

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  • 原子層沉積表面改性設備分子涂層

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  • 磁增強反應離子刻蝕機設備

    詳細摘要: 磁增強反應離子刻蝕機設備 是行業(yè)先的深槽刻蝕設備,可以提供理想的刻蝕速度,但同時保證側面特征良好控制和一致性。武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學...

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 等離子刻蝕機設備

    詳細摘要: 等離子刻蝕機設備一階段:由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段:武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學試驗機儀器為主

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 紅外后對準雙面刻蝕機

    詳細摘要: 紅外后對準雙面刻蝕機 是行業(yè)先的深槽刻蝕設備,可以提供理想的刻蝕速度,但同時保證側面特征良好控制和一致性。

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 磁增強反應離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強反應離子刻蝕機 一階段:由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面一階段:由C4F8產(chǎn)生CFn聚合物沉淀在所有的表面

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-28 在線留言

  • 多功能磁增強反應離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強反應離子刻蝕機 實時調節(jié)工藝過程參數(shù),以達到理想的側面輪廓。實時調節(jié)工藝過程參數(shù),以達到理想的側面輪廓。

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-26 在線留言

  • 多功能磁增強離子刻蝕機

    詳細摘要: 多功能磁增強離子刻蝕機 由于離子體的定向運動,基面上的聚合物被去除的速度要比在側壁的去除速度快。

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-26 在線留言

  • 離子刻蝕機

    詳細摘要: 離子刻蝕機 深硅刻蝕的主要應用包括: MEMS,*封裝(TSV),功率器件等等。

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-04-25 在線留言

  • 勻膠顯影機

    詳細摘要: 勻膠顯影機 適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部...

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 無掩模光刻機

    詳細摘要: 無掩模光刻機 美國AMP(Advanced Micro Patterning, LLC)公司憑借多年的光刻設備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻...

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    詳細摘要: 全自動曝光機 OAI在半導體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗,通過新的精英級光刻設備滿足了日益增長的動態(tài)市場挑戰(zhàn)。

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 等離子刻蝕機

    詳細摘要: 等離子刻蝕機 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術的開發(fā),SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝,比如功率MOSFET和200mm和3...

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • 手動/半自動曝光機

    詳細摘要: 手動/半自動曝光機 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),光刻機,紫外曝光機等;

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • IPG激光劃片機

    詳細摘要: IPG激光劃片機 能適應單晶硅、多晶硅、非晶硅電池劃片和硅、鍺、砷化鎵半導體材料的劃片和切割。比如厚片(如AP公司0.7mm單晶硅多晶硅;1.2mm非晶硅帶等)...

    產(chǎn)品型號:所在地:武漢市更新時間:2021-03-22 在線留言

  • CMP研磨拋光系統(tǒng)

    詳細摘要: CMP研磨拋光系統(tǒng) 該機型是PM5型的升級版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理,整個過程全封閉控制,并內置自清洗功能,提升對操作人員的安全保護;全部采用...

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  • ALD原子層沉積系統(tǒng)

    詳細摘要: ALD原子層沉積系統(tǒng) 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區(qū)有機發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

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