天津中環(huán)電爐股份有限公司
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詳細摘要： 1800℃工作溫度SX-G系列包括SX-G03183臺式、SX-G18183立式高溫箱式電爐，節(jié)能環(huán)保、使用安全性高，全自動產(chǎn)品，結(jié)構(gòu)合理使用方便
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2021-11-02 在線留言
詳細摘要： 產(chǎn)品應(yīng)用：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
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詳細摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實...
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詳細摘要： PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
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詳細摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。
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詳細摘要： PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
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詳細摘要： 產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
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