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更新時(shí)間：2022-12-28 15:54:39瀏覽次數(shù)：626次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線產(chǎn)品描述Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)
Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot™測(cè)量模式可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。ZDot或集成寬帶反射儀都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。Zeta-20也是一種顯微鏡，可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。Zeta-20通過(guò)提供全面的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。
· 采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀，具有廣泛應(yīng)用
· 可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡
· ZDot：同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像
· ZXI：白光干涉測(cè)量技術(shù)，適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量
· ZIC：干涉對(duì)比度，適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)
· ZSI：剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像
· ZFT：使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率
· AOI：自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)，并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化
· 生產(chǎn)能力：通過(guò)測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量
· 臺(tái)階高度：納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度
· 紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度
· 外形：3D翹曲和形狀
· 應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力
· 薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度
· 缺陷檢測(cè)：捕獲大于1μm的缺陷
· 缺陷復(fù)檢：采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置
· 太陽(yáng)能：光伏太陽(yáng)能電池
· 半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體
· 半導(dǎo)體 WLCSP（晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝）
· 半導(dǎo)體FOWLP（扇出晶圓級(jí)封裝）
· PCB和柔性PCB
· MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）
· 醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備
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