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Bruker - 光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/FTIR

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Bruker - 光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/FTIR

詳細(xì)介紹

美國(guó)Bruker(前Veeco)
AFM、FTIR、納米壓痕系統(tǒng)、光學(xué)輪廓儀及臺(tái)階儀
美國(guó)Bruker公司(前美國(guó)Veeco)是世界原子力顯微鏡,光學(xué)輪廓儀,臺(tái)階儀生產(chǎn)廠家。顧客包括半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)儲(chǔ)存,與多重領(lǐng)域的研究機(jī)構(gòu)。Bruker為了維持對(duì)高科技產(chǎn)品成長(zhǎng)的地位,持續(xù)推出新產(chǎn)品,期望為顧客提供長(zhǎng)期的產(chǎn)品優(yōu)勢(shì),提升生產(chǎn)良率、增加生產(chǎn)力、提高品質(zhì)及降低使用成本。

 


 

Ultima活體多光子顯微鏡系列

快速、靈活的活體深層成像平臺(tái)
更深 (970um)、更快 (45FPS@12KHz)、更清楚、并適合大動(dòng)物成像。

 

 Ultima活體多光子顯微鏡應(yīng)用:
• 活體成像
• 神經(jīng)的在體成像
• 行為模式的在體成像
• 光激活

 

Ultima IntraVital
 主要用于從小鼠到獼猴的活體成像,提供了優(yōu)異的成像深度和成像速度。Ultima IntraVital擁有以下特質(zhì):

• 高速3D成像
• 誤差小于20 nm的光刺激精準(zhǔn)控制
• 物鏡下適合對(duì)大動(dòng)物進(jìn)行操作的無(wú)障礙空間
• 樣品保持靜止,顯微鏡和掃描單元可XY方向精確平移
• 可無(wú)縫整合第三方行為控制和電生理記錄設(shè)備
• 可靈活升級(jí)透射光路和橋式載物臺(tái)

 

Ultima InVitro
采用經(jīng)典的正置或倒置顯微鏡設(shè)計(jì),主要用于腦片等組織切片、培養(yǎng)細(xì)胞的觀察,或小鼠的在體觀察。典型的Ultima InVitro應(yīng)用包括神經(jīng)信號(hào)傳導(dǎo)、組織結(jié)構(gòu)性質(zhì)變化、蛋白運(yùn)輸和細(xì)胞內(nèi)離子動(dòng)態(tài)觀察。

 

Ultima Investigator
采用正置顯微鏡設(shè)計(jì),是性價(jià)比的Ultima多光子顯微鏡系統(tǒng)。

功能強(qiáng)大的基礎(chǔ)配置:
Investigator配備了科學(xué)家進(jìn)行大多數(shù)研分所需要的一切配置,包括掃描振鏡、正置顯微鏡平臺(tái)、電動(dòng)Z調(diào)焦裝置、激光導(dǎo)入和整形光路、兩個(gè)熒光通道光路/PMT、模擬輸入和輸出電路、高性能工作站,以及全功能的Prairie View軟件。

靈活的升級(jí)配置:
Ultima Investigator提供了大量 升級(jí)選項(xiàng),用來(lái)滿足挑戰(zhàn)性的實(shí)驗(yàn)需求。

 

Prairie View軟件 (一鍵設(shè)定的成像模式)
• 線掃成像
• ROI成像
• 全視野光激光
• 點(diǎn)狀或者螺旋狀光刺激
• 延時(shí)體成像
• Z軸層切
• 多維成像
• 大視野拼圖成像
 

 


 

Vutara 350 超高分辨率顯微鏡
快的超高分辨率顯微鏡
活細(xì)胞、高速、超高分辨率、3D成像
分辨率20nm@XY, 50nm@Z,
采用單分子定位技術(shù),單層掃描時(shí)間10秒鐘。

 

升級(jí)選項(xiàng)包括:

• 激光器
• 多色成像模塊
• 活細(xì)胞培養(yǎng)裝置
• 物鏡
• 全內(nèi)反射成像模塊(TIRF)

Vutara SRX軟件功能:
 
實(shí)時(shí)渲染微管結(jié)構(gòu)的超高分辨率圖像結(jié)果。不同顏色表示不同的Z軸位置信息。
 
Z軸定位信息 (共測(cè)量28個(gè)
TetraSpeck熒光微珠,12nm的定位精度)。
不同通道的共定位精度為:
X=6nm,Y=4nm,Z=5nm。
 
 
高速靈敏 并行處理
 
超高速三維空間顆粒追蹤
 
單分子定位
 

 

Opterra II 多點(diǎn)掃描激光共聚焦顯微鏡
靈活高速定量的細(xì)胞成像系統(tǒng)

應(yīng)用:
• 提供了掃描速度、分辨率和檢測(cè)靈敏度的最靈活選擇
• 的視場(chǎng)均一性,更適合定量分析
• 的光漂白/光毒性,無(wú)論再敏感的樣品均可進(jìn)行三維的動(dòng)態(tài)成像
 

 

海綿胚胎,40倍物鏡,561nm激光激發(fā),采集56個(gè)Z軸切片,切片間隔2微米,完成整個(gè)Z軸序列耗時(shí)一分鐘。  

 

胰腺瘤切片,3D大視野拼圖,六十倍物鏡成像視野。
2mmx1.5mm
 

小鼠輸卵管切片。

 


 

Dimension FASTSCAN 原子力顯微鏡 (新一代高成像速度AFM)
Dimension FastScan™ 原子力顯微鏡(AFM)將AFM的性能應(yīng)用在高分子、半導(dǎo)體、能源、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)及材料領(lǐng)域等奈米級(jí)研究。在不損失超高的分辨率和的儀器性能前提下,限度的提高了成像速度。這項(xiàng)突破性的技術(shù)創(chuàng)新,從根本上解決了AFM成像速度慢的難題,大大縮短了各技術(shù)水平的AFM用戶獲得數(shù)據(jù)的時(shí)間。當(dāng)您對(duì)樣品進(jìn)行掃描時(shí),無(wú)論設(shè)置實(shí)驗(yàn)參數(shù)為掃描速度 > 125Hz,還是在大氣下或者溶液中1秒獲得1張AFM圖像,都能得到優(yōu)異的高分辨圖像。快速掃描這一變革性的技術(shù)創(chuàng)新重新定義了AFM儀器的操作和功能。

Dimension FastScan™ 原子力顯微鏡(AFM)是Dimension家族產(chǎn)品中的成員,以廣泛使用的AFM平臺(tái)為基礎(chǔ),Dimension FastScan™ 的溫度補(bǔ)償定位傳感器使Z 軸的的噪音水平達(dá)到亞-埃米級(jí),X-Y 方向達(dá)埃米級(jí),在空氣或液體中成像速度是原來(lái)速度的100倍,自動(dòng)激光調(diào)節(jié)和檢測(cè)器調(diào)節(jié),智能進(jìn)針,大大縮短了實(shí)驗(yàn)時(shí)間。在大樣品臺(tái)、90 微米掃描范圍系統(tǒng)的儀器當(dāng)中,這種表現(xiàn)是非常突出的,優(yōu)于絕大部分的開環(huán)、高分辨率AFM 系統(tǒng)的噪音水平。

Dimension FastScan™ AFM具有對(duì)大樣品的自動(dòng)成像能力,使之在半導(dǎo)體和數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備的制造過程中廣泛使用,它能夠測(cè)量直徑達(dá)200 mm的樣品上測(cè)量100多個(gè)區(qū)域。它具有原子力顯微鏡和掃描穿隧式顯微鏡的全部配置,可以在三維尺寸上探測(cè)缺陷、測(cè)量表面粗糙度和其他特征,測(cè)量過程對(duì)樣品無(wú)損傷并且無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)處理和修飾。

 

(1) Scanning Capacitance Microscopy (SCM)掃瞄電容式顯微鏡
主要利用樣品(一般為半導(dǎo)體)表面多數(shù)載子(電子或電洞)的變化來(lái)成像,于針尖和樣品之間施加一交流偏壓,針尖在樣品表面進(jìn)行掃瞄,藉由一超高靈敏度、高頻震蕩電路來(lái)監(jiān)測(cè)針尖和樣品之間的電容改變。SCM普遍運(yùn)用于半導(dǎo)體制程中分析二維摻雜量分布和缺陷。

  

 

(2) Conductive AFM (C-AFM) 導(dǎo)電式原子力顯微鏡之電流
主要分析中、低導(dǎo)電度半導(dǎo)體的導(dǎo)電度變化。 CAFM 作為一般用途的量測(cè)時(shí),使其電流范圍可從fA到mA,并使用導(dǎo)電探針,在一般操作下會(huì)施加直流偏壓于針尖上而讓樣品接地。當(dāng)運(yùn)用z回授訊號(hào)來(lái)產(chǎn)生接觸式AFM影像時(shí),電流會(huì)流通針尖和樣品,藉以產(chǎn)生導(dǎo)電性的AFM影像。   

 

(3) Scanning Spreading Resistance Microscopy (SSRM)掃描擴(kuò)展電阻式顯微鏡
之掃描擴(kuò)展電阻式顯微鏡Scanning Spreading Resistance Microscopy (SSRM)是從Contact mode AFM衍生出的第二成像機(jī)種,主要作為半導(dǎo)體材料中二維載子濃度分布(電阻)成像之用。當(dāng)施加直流偏壓于針尖和樣品之間,同時(shí)間一導(dǎo)電探針以接觸方式掃描樣品,并以10pA到0.1mA的對(duì)數(shù)電流放大器來(lái)量測(cè)針尖和樣品之間所產(chǎn)生的電流。  

右圖為InP異質(zhì)結(jié)構(gòu)的SSRM影像,右圖為Contact mode AFM影像(掃描范圍為7mm) 由Lucent Technologies提供。在SSRM影像中的對(duì)比清楚地呈現(xiàn)異質(zhì)結(jié)構(gòu)的不同區(qū)域:鋅摻雜p-型層和S摻雜的n-型層。

 

(4) Surface Potential表面電位
Surface Potential (SP)表面電位成像,是從Tapping Mode衍生出的第二成像模式,利用樣品表面的靜電位來(lái)成像。當(dāng)針尖于Lift Mode 下行經(jīng)樣品表面上方,由于針尖和樣品表面各個(gè)位置的電位是不同的,所以懸臂和針尖會(huì)有一作用力,藉由變換針尖上的電壓使得針尖上的電位和樣品的表面電位維持一致來(lái)抵銷作用力, SP影像用來(lái)偵測(cè)和定出接觸電位的差異(CPD)。 

右圖為CD-RW Tapping mode量測(cè)圖而左圖為Surface Potential影像,只有在Surface Potential的影像中可呈現(xiàn)出bit(5µm掃瞄范圍) 。。

 

ContourGT 產(chǎn)品系列 - 表面量測(cè)系統(tǒng)
- 供生產(chǎn)QC/QA及研發(fā)使用的非接觸型光學(xué)輪廓儀
ContourGT™ 系列產(chǎn)品結(jié)合*的64位、多核心運(yùn)作及分析軟件、的白光干涉儀(WLI)硬件,以及前所未具簡(jiǎn)易操作度、為目前所開發(fā)的3D光學(xué)表面輪廓儀。ContourGT 系列產(chǎn)品中包含有旗艦級(jí)ContourGT-X、進(jìn)階級(jí)ContourGT-I及入門等級(jí)的桌上型K0。每款機(jī)型可提供多種加工與制造業(yè)市場(chǎng)上各種應(yīng)用范圍 (包括高亮度LED、 太陽(yáng)能、眼科、 半導(dǎo)體及醫(yī)療裝置等)。 NPFLEX為大尺寸工件精密加工提供非接觸準(zhǔn)確測(cè)量。

ContourGT-K0

ContourGT-I

ContourGT-X

NPFLEX

Bump球高度、圓度測(cè)量

打線后的芯片

銅線封裝–
打線最深測(cè)量及鋁濺高測(cè)量

Laser Marking 最深測(cè)量

 

 

 

Contour GT-I配備傾斜調(diào)整支架、自動(dòng)樣品臺(tái)和多物鏡自動(dòng)塔臺(tái),實(shí)現(xiàn)全面、精準(zhǔn)的表面測(cè)量任務(wù),滿足科研和生產(chǎn)各領(lǐng)域檢測(cè)需求。Contour GT-I采用Bruker的抗震測(cè)量技術(shù),及節(jié)省空間高穩(wěn)定性的基座設(shè)計(jì),保證在生產(chǎn)車間測(cè)試環(huán)境條件非??量痰那闆r下,也能完成準(zhǔn)確高效的產(chǎn)品測(cè)量。

配AFM功能以實(shí)現(xiàn)1萬(wàn)倍放大倍數(shù)

 

UMT機(jī)械性能測(cè)試儀
CETR-UMT是一個(gè)能夠在單一平臺(tái)實(shí)現(xiàn)所有三種檢測(cè)類型的儀器,主要包括球-盤,針-盤,盤-盤,環(huán)-盤和四球的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng);線性運(yùn)動(dòng)的球-盤,針-盤,盤-盤,環(huán)-盤及交叉柱;和密封軸承的快-環(huán)。

盤 / 盤模塊

配備1000?C高溫腔的盤/盤模塊

配備300?C高溫腔的往復(fù)式模塊

納米壓痕模塊

 

* UMT-1 納米材料和薄膜的納米級(jí),微米級(jí)力學(xué)綜合性能測(cè)試,載荷范圍:1微牛頓 - 10牛頓
* UMT-2 顯微材料和涂層的微米級(jí)力學(xué)綜合性能測(cè)試,載荷范圍:1毫牛頓 - 200牛頓
* UMT-3 金屬,陶瓷材料和潤(rùn)滑油宏觀尺度力學(xué)性能測(cè)試,載荷范圍:0.1牛頓 - 1000牛頓

 

 

傅氏轉(zhuǎn)換紅外線光譜分析儀系統(tǒng) (FTIR)

- 利用紅外線光譜經(jīng)傅利葉轉(zhuǎn)換進(jìn)而分析雜質(zhì)濃度的光譜分析儀器

技術(shù)參數(shù):
1. 分辨率: 0.5cm -1,可升級(jí)至0.25cm -1
2. 信噪比優(yōu)于40,000:1 (一分鐘測(cè)試)
3. ROCKSOLID干涉儀,抗震性能優(yōu),免維護(hù)
4. 可以連接紅外顯微鏡、熱失重,氣相色譜、振動(dòng)園二色
5. 遠(yuǎn)紅外、中紅外、近紅外多波段測(cè)量

紅外顯微鏡測(cè)量樣品前,
需在樣品上定義感興趣的區(qū)域

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