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萊森光學(xué)(深圳)有限公司


制冷光纖光譜儀

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更新時(shí)間:2024-03-22 19:28:00瀏覽次數(shù):113次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀是萊森光學(xué)(LiSen Optics)的明星產(chǎn)品,采用了在200-1000nm高量子效率的1044x64像素薄型背照制冷型面陣CCD,其像元尺寸達(dá)到24µm×24µm,具有非常高的科研級(jí)靈敏度,同時(shí)采用了高性能穩(wěn)定的TE制冷裝置、降噪低噪聲電路控制技術(shù),光譜儀暗噪聲極低,優(yōu)良的穩(wěn)定性,高信噪比。LiSpec-UVIR300TEC采用了大焦距C-T......

詳細(xì)介紹

LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀萊森光學(xué)(LiSen Optics)的明星產(chǎn)品,采用了在200-1000nm高量子效率的1044x64像素薄型背照制冷型面陣CCD,其像元尺寸達(dá)到24µm×24µm,具有非常的科研級(jí)靈敏度,同時(shí)采用了高性能穩(wěn)定的TE制冷裝置、降噪低噪聲電路控制技術(shù),光譜儀暗噪聲極低,優(yōu)良的穩(wěn)定性,高信噪比。LiSpec-UVIR300TEC采用了大焦距C-T光學(xué)平臺(tái)設(shè)計(jì),雜散光光陷阱控制技術(shù),大大提升了光譜儀的性噪比、靈敏度以及熱穩(wěn)定性,非常適合紫外輻射、拉曼、熒光等弱光譜信號(hào)的測(cè)量。

LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀光譜覆蓋范圍200-950nm,可根據(jù)用戶(hù)需求配置不同刻線(xiàn)數(shù)的光柵,狹縫大小,消二級(jí)衍射濾光片,獲得不同的波長(zhǎng)范圍光譜和分辨率。此外,LiSpec-UVIR300TEC光譜儀還采用了可更換狹縫設(shè)計(jì),用戶(hù)可以方便輕易的自己進(jìn)行狹縫更換,配置多種不同寬度的狹縫以滿(mǎn)足不同分辨率和靈敏度的光譜測(cè)量需求,以拓展其靈活性。

 

大標(biāo)題_畫(huà)板 3.jpg

藍(lán)色方形圖片.jpg光譜范圍200-950nm可選,大焦距CT光路設(shè)計(jì),分辨率高,狹縫可更換,擴(kuò)展靈活

藍(lán)色方形圖片.jpg熱電致冷背照式面陣CCD,光譜響應(yīng)量子效率高、穩(wěn)定性好

藍(lán)色方形圖片.jpg噪聲電路控制技術(shù),極低暗噪聲,信噪比、動(dòng)態(tài)范圍高

藍(lán)色方形圖片.jpg高靈敏度及熱穩(wěn)定性,非常適合拉曼、熒光等微弱信號(hào)光譜應(yīng)用

藍(lán)色方形圖片.jpgLiSpecView全功能光譜測(cè)試軟件,提供透反射、輻射、拉曼、吸光度、激光功率、顏色測(cè)量等多種測(cè)量模塊

Model

LiSpec-UVIR300TEC

光學(xué)平臺(tái)

對(duì)稱(chēng) Czerny-Turner,焦距110mm

光譜范圍

200-950 nm(可選)

光學(xué)分辨率(FWHM

0.2-5nm(取決于光柵配置)

狹縫

50um

雜散光

≤0.05%

靈敏度(計(jì)數(shù)/微瓦每毫秒

550.000

探測(cè)器

薄型背照式TE致冷1044X644像元面陣CCD

CCD制冷溫度

DT = -35 °C(相對(duì)環(huán)境溫度)

信噪比

1200:1

動(dòng)態(tài)范圍

65000:1

暗噪聲(RMS

3 counts

AD 轉(zhuǎn)換

18-bit, 6 MHz

校正線(xiàn)性

≥99%

積分時(shí)間

1ms-15min

接口

USB 2.0 (120 Mbps) / RS-232 (115200mMbps)

光纖接頭

SMA905;FC/PC接頭

濾光片

內(nèi)含線(xiàn)性漸變消高階濾光片

探測(cè)器

面陣背照式制冷型CCD,1044×64 pixels,像素大小24×24μm2; TEC制冷: -15℃;溫度穩(wěn)定性:±0.1℃;靈敏度550,000 counts/μW per ms;量子效率:≥85%;

I/O接口

IPT1-30接口、1路模擬輸入、

2路數(shù)字輸入、2路數(shù)字輸出、觸發(fā)同步

拓展功能口

30 pin 擴(kuò)展功能口,支持BreakOut-Board及BreakOut-Cable 擴(kuò)展外部功能

軟件

包含7種常用光譜測(cè)量模式,C模式、-BK模式、R模式、T模式、A模式、Ab模式及Ir模式;支持4 種觸發(fā)模式,包括Normal、Level、Edge及Synchronization觸發(fā)模式;還包含CIE1976Lab顏色測(cè)量功能,CIE標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量光度參數(shù),輻射度學(xué)參數(shù),峰值波長(zhǎng),F(xiàn)WHM,輻射積分強(qiáng)度,激光功率功能,隨時(shí)間監(jiān)測(cè)光強(qiáng)度功能

供電

USB 2.0250mA(默認(rèn))

工作溫度

0-55℃

尺寸/重量

190 × 120 × 66 mm,1Kg

 

大標(biāo)題_畫(huà)板 5.jpg

中標(biāo)題-42.jpg

拉曼測(cè)量系統(tǒng)主要由光譜儀、激光器、拉曼探頭、拉曼識(shí)別光譜分析軟件等組成,拉曼散射主要為斯托克斯和反斯托克斯,斯托克斯拉曼散射通常要比反斯托克斯散射強(qiáng)得多,拉曼光譜儀通常測(cè)定的大多是斯托克斯散射,常用拉曼光譜儀有532/785/1064拉曼光譜儀,拉曼測(cè)量相對(duì)熒光信號(hào)會(huì)更弱一個(gè)數(shù)量級(jí),

通常我們?cè)卺槍?duì)微弱拉曼信號(hào)測(cè)量我們要進(jìn)行表面拉曼增強(qiáng)(SERS)的方法來(lái)提高拉曼信號(hào)SERS

LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀因其的靈敏度和高信噪比的特點(diǎn),可以搭配激光器、拉曼探頭等配件,進(jìn)行對(duì)微弱光譜信號(hào)的拉曼測(cè)量應(yīng)用,廣泛應(yīng)用于食品安全、化學(xué)實(shí)驗(yàn)室、生物及醫(yī)學(xué)等光學(xué)方面領(lǐng)域,研究物質(zhì)成分的判定與確認(rèn);還可以應(yīng)用于刑偵中對(duì)的檢測(cè)及珠寶行業(yè)的寶石鑒定。

  

中標(biāo)題-43.jpg

物體的顏色可以由CIE1976(L*a*b*)顏色空間來(lái)表述。L*代表顏色的亮度正a*值代表紅色,負(fù)a*值代表綠色,色調(diào)(Hue),色度(Chroma),與此相似,正b*值代表黃色,負(fù)b*值代表藍(lán)色。L*a*b*值可由樣品(物體)的CIE三刺激值X,Y,Z和標(biāo)準(zhǔn)光源的三刺激值Xn,Yn,Zn推導(dǎo)得到,物體顏色的CIE三刺激值X,Y,Z是把標(biāo)準(zhǔn)光源的相對(duì)功率P、物體的反射率R(或透射率T)和CIE標(biāo)準(zhǔn)觀(guān)測(cè)函數(shù)(2度或10度角)相乘得到。把所得到的值在可見(jiàn)光范圍內(nèi)(從380到780nm,5nm步長(zhǎng))對(duì)波長(zhǎng)進(jìn)行積分就可得到三刺激值。專(zhuān)業(yè)的顏色測(cè)量軟件,測(cè)量得到的L*a*b*值和參考色,就可以得到色差。

 

中標(biāo)題-44.jpg

輻射光能量可以量化為輻射量,一種表征從光源發(fā)出的每秒輻射能量(W)的度量標(biāo)準(zhǔn)。輻射測(cè)量一般要通過(guò)已知光譜能量分布的標(biāo)準(zhǔn)光源,對(duì)光譜儀系統(tǒng)進(jìn)行輻射標(biāo)定,才能通過(guò)量化參數(shù)進(jìn)行輻射測(cè)量。輻射能量與人眼視覺(jué)相關(guān)聯(lián)(光度學(xué)),就可以得到按照CIE中所定義的表征觀(guān)測(cè)者平均視覺(jué)的光譜發(fā)光效率函數(shù)。因此輻射測(cè)量定義輻射度學(xué)參數(shù)、光度學(xué)參數(shù)、色度學(xué)參數(shù)。輻射度學(xué)參數(shù)主要以輻照度μW/cm2、輻亮度µWatt/sr、輻射通量µWatt以及光子數(shù)µMol/s/m2,µMol/m2,µMol/sµMol,光度學(xué)參數(shù)流明Lumens、光照度Lux、光強(qiáng)度Candela,色度學(xué)參數(shù)X,Y,Z,x,y,z,u,v,色溫、CRI顯色指數(shù)等       

 

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光譜儀測(cè)量吸光度的方法是將某一波長(zhǎng)的平行光通過(guò)一塊平面平行物體,對(duì)透過(guò)物體的光束進(jìn)行檢測(cè)。由于一部分能量被樣品中的分子吸收,檢測(cè)的入射光的強(qiáng)度要高于透過(guò)樣品的光強(qiáng)。吸光度被廣泛運(yùn)用于液體和氣體的光譜測(cè)量技術(shù)中,可以對(duì)物質(zhì)進(jìn)行定量鑒別或指紋認(rèn)證等,還可以將該應(yīng)用集成到工業(yè)應(yīng)用環(huán)境和客戶(hù)所關(guān)注的測(cè)試中。

使用萊森光學(xué)模塊化光譜儀,可針對(duì)特定的吸光度測(cè)量來(lái)選擇不同波長(zhǎng)范圍和分辨率的光譜儀,并且能在實(shí)驗(yàn)室或者現(xiàn)場(chǎng),對(duì)整套光學(xué)測(cè)量裝置進(jìn)行快速配置??梢曰谌R森光學(xué)優(yōu)質(zhì)的光譜儀,選擇紫外光源、不同光程氣室、吸收池、特定吸收光路模塊、光纖探頭進(jìn)行靈活易用的搭配,針對(duì)不同的吸光度試驗(yàn)搭配出多種配置選擇。

 

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薄膜測(cè)量系統(tǒng)是基于白光干涉原理來(lái)確定光學(xué)薄膜的厚度。白光干涉圖樣通過(guò)數(shù)學(xué)函數(shù)被計(jì)算出薄膜厚度。對(duì)于單層膜,若已知薄膜介質(zhì)的n和k值即可計(jì)算出它的物理厚度。測(cè)量的膜層厚度從10 nm到50 um,分辨率可達(dá)1 nm。薄膜測(cè)量應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)工業(yè),此時(shí)需要監(jiān)控等離子刻蝕和沉積加工過(guò)程。還可用于其它需要測(cè)量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領(lǐng)域,如金屬表面的透明涂層和玻璃襯底。 

 

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隨著工業(yè)的蓬勃發(fā)展,對(duì)材料本身特性的質(zhì)量控制愈加嚴(yán)格,利用光纖光譜儀進(jìn)行快速準(zhǔn)確的透/反射光譜的測(cè)量技術(shù)也日成熟。透/反射光譜測(cè)量是光譜測(cè)量的基本手段,通常需要使用光譜儀、光源、光纖、測(cè)量支架、標(biāo)準(zhǔn)參比樣品、和測(cè)量軟件等設(shè)備。對(duì)于不同種類(lèi)的樣品,為了獲取更好的光譜數(shù)據(jù),這兩種基本模式又會(huì)演化為更多的形式。

光纖光譜儀采用光纖光路,解決了光路在儀器集成中的限制。并且萊森光學(xué)的光纖光譜具有體積小,穩(wěn)定性高,支持軟件二次開(kāi)發(fā),配件豐富等特點(diǎn),已經(jīng)成功的廣泛應(yīng)用于玻璃、高分子材料等行業(yè)的測(cè)試。萊森光學(xué)為用戶(hù)提供了以光譜儀為核心的光譜測(cè)量設(shè)備,利用這些配置豐富的設(shè)備,即可搭建各種常見(jiàn)的光譜測(cè)量系統(tǒng)。


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熒光物質(zhì)在特定波長(zhǎng)的輻射能量輻射下,能發(fā)射出具有一定光譜分布的輻射。熒光光譜測(cè)量靈敏度高、選擇性強(qiáng)、樣品用量少、方法簡(jiǎn)便且具備環(huán)保性,具有如上諸多優(yōu)點(diǎn),所以在工程應(yīng)用中有著廣泛的應(yīng)用,如在食品加工過(guò)程中用于食品安全的監(jiān)測(cè)、生物醫(yī)學(xué)中用于病變的熒光診斷、地質(zhì)學(xué)中用于石油礦物勘探、

土壤礦物成分的測(cè)定以及物質(zhì)中微量元素的檢測(cè)等等。

熒光光譜測(cè)量通常需要高靈敏度的光譜儀。對(duì)于大多數(shù)熒光應(yīng)用來(lái)說(shuō),產(chǎn)生的熒光能量只相當(dāng)于激發(fā)光能量的3%左右。熒光的光子能量比激發(fā)光的光子能量小波長(zhǎng)長(zhǎng),而且一般都是在各個(gè)方向上輻射能量散射光。萊森光學(xué)光纖光譜儀采用了可更換狹縫、可選擇的波長(zhǎng)范圍和分辨率設(shè)計(jì),使客戶(hù)能根據(jù)自己的需求配置自由搭配適合參數(shù)的熒光測(cè)量系統(tǒng)。


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