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反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE）

參考價(jià)	￥10-￥280/臺(tái)

參考價(jià)

￥10-￥280/臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)DISC-RIE-6
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2024/4/9 9:57:18
訪問(wèn)次數(shù)140

產(chǎn)品標(biāo)簽:

等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕 RIE

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國(guó)各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器，擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過(guò)硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來(lái)公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時(shí)也與全國(guó)各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系，致力于把具有市場(chǎng)前景的科研成果推向市場(chǎng)。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國(guó)的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設(shè)備，鍍膜設(shè)備，光刻機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	國(guó)產(chǎn)

反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來(lái)進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來(lái)使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE）產(chǎn)品信息

應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：刻蝕速率控制方便，耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)

★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或高真空系統(tǒng)。雙片裝，樣品自動(dòng)運(yùn)送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺(tái)：可升降，包含水冷

★電源配置：下電偏壓，包含自動(dòng)匹配