應(yīng)用方向:科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 高性能薄膜制備
產(chǎn)品配置:
★樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸
★沉積材料:包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅鍺合金(SiGe)、鎢硅合金(WSi2)、W、SiC。
★沉積腔體:高真空系統(tǒng)
★沉積不均勻性:±3%-±6%
★沉積速率:20-600nm/min(視具體材料與工藝)
★工作臺(tái):可升降,高度可調(diào)
★加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱
★電源配置:射頻;直流偏壓
★氣路數(shù)量與種類(lèi):標(biāo)配4路氣路 或 用戶(hù)選配
★光學(xué)性能監(jiān)測(cè):可選配橢偏儀在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)
★漸變折射率薄膜制備:可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)
★操作模式:全自動(dòng)+半自動(dòng)控制
類(lèi)似產(chǎn)品:帶預(yù)真空室(PECVD-8100)